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면역세포의 진탕 배양 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C12N-005/078
출원번호 10-2019-0166079 (2019-12-12)
등록번호 10-2111283-0000 (2020-05-11)
DOI http://doi.org/10.8080/1020190166079
발명자 / 주소
  • 황성환 / 서울특별시 강서구 금낭화로**가길 **, ***동 ***호(방화동, 방화동 동일스위트리버아파트)
  • 강정화 / 서울특별시 강남구 논현로***길 **, ***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 이뮤니스바이오 / 인천광역시 서구 심곡로***번길 **, 국제성모병원 앰티피몰 지하*층 (심곡동, 마리스텔라)
대리인 / 주소
  • 유병선
심사청구여부 있음 (2019-12-12)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 적절한 전단응력이 가해지도록 진탕배양을 함으로써 면역세포의 증식을 촉진하는 배양방법에 관한 것이다. 본 발명의 면역세포의 진탕 배양 방법은, 혈액으로부터 면역세포를 분리하는 단계 및 분리된 면역세포를 0.5dyn/cm2 이하의 전단응력이 가해지도록 진탕 배양하는 단계를 포함한다. 본 발명의 방법은 면역세포간 상호작용을 방해하지 않으면서 종래 동물세포의 배양시 발생하기 쉬운 발포의 문제 없이 세포의 성장과 증식을 촉진할 수 있으며, 세포 계수를 어렵게 하는 뭉침현상을 해소할 수 있는 효과가 있다.

대표청구항

혈액으로부터 면역세포를 분리하는 단계; 및 분리된 면역세포를, 배양하기 시작하는 배양초기부터 배양 전(全)기간에 걸쳐 하기 식으로 계산되는 0.5dyn/cm2 이하의 전단응력이 가해지도록 진탕 배양하는 단계를 포함하는, 면역세포의 진탕 배양 방법.(a: orbit 반경, η: 배지 점도 계수, ρ: 배양액 밀도, f: 초당 회전수)

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 세포배양용 진탕장치 및 세포배양방법으로서의진탕배양방법 | 하타 노리히코, 진구지 히데마사, 아리요시 나오코
  2. [한국] 세포밀도 조절을 이용한 자연살해세포의 대량증식방법 | 황성환, 최진관, 강정화
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