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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0171163 (2019-12-19) | |
등록번호 | 10-2079763-0000 (2020-02-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190171163 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-12-19) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 공간 활용이 용이하면서도 가열시 후판의 지지가 용이한 가열로를 제공하는 것으로 일실시예에서 후판을 열처리하는 후판용 가열로로서, 로 본체; 상기 로 본체 내부 공간을 가열하는 버너; 상기 로 본체 내부에 배치되며, 후판을 지지하는 스키드; 및 상기 후판의 길이 방향을 따라서 연장하며, 로 본체 측면에 형성된 하나의 도어;를 포함하며, 상기 로 본체 측면의 상기 도어를 통하여 후판이 로 본체 내부로 장입 또는 외부로 추출되는 후판용 가열로를 제공한다.
후판을 열처리하는 후판용 가열로로서,로 본체; 상기 로 본체 내부 공간을 가열하는 버너; 상기 로 본체 내부에 배치되며, 후판을 지지하는 스키드; 및 상기 후판의 길이 방향을 따라서 연장하며, 로 본체 측면에 형성된 하나의 도어;를 포함하며, 상기 로 본체 측면의 상기 도어를 통하여 후판이 로 본체 내부로 장입 또는 외부로 추출되며,상기 스키드는 후판의 폭방향으로 연장하며, 복수의 스키드가 후판의 길이 방향을 따라서 배치되고,각 스키드는 최상면에 후판의 폭방향을 따라 홈이 형성된 내화물체; 및 상기 홈에 배치되는 봉;을 포함하며,가
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