초록 ▼

펨토초 레이저 소스는, 출력 광 파이버 (212) 를 통해, 제 1 파장 λ1 에서, 제 1 피코초 펄스를 전달하는데 적합한, 주어진 재료로 도핑된 광 파이버를 가진 인젝팅 레이저 발진기 (211); 제 1 펄스로부터, 제 1 펄스에 대하여 증폭되는 에너지로, 제 1 파장에서 제 2 펄스를 생성하기 위한 증폭 광 파이버 (229) 를 가진 전력 증폭기 (220) 로서, 증폭 광 파이버 (229) 는 인젝팅 발진기의 광 파이버 (212) 와 동일한 재료로 도핑되고 솔리톤 압축의 포인트로부터의 거리 이하이고 증폭 광 파이버가 비선형 모

펨토초 레이저 소스는, 출력 광 파이버 (212) 를 통해, 제 1 파장 λ1 에서, 제 1 피코초 펄스를 전달하는데 적합한, 주어진 재료로 도핑된 광 파이버를 가진 인젝팅 레이저 발진기 (211); 제 1 펄스로부터, 제 1 펄스에 대하여 증폭되는 에너지로, 제 1 파장에서 제 2 펄스를 생성하기 위한 증폭 광 파이버 (229) 를 가진 전력 증폭기 (220) 로서, 증폭 광 파이버 (229) 는 인젝팅 발진기의 광 파이버 (212) 와 동일한 재료로 도핑되고 솔리톤 압축의 포인트로부터의 거리 이하이고 증폭 광 파이버가 비선형 모드에서 동작하는 거리보다 큰 길이를 갖는, 상기 전력 증폭기; 제 2 펄스를 수신하고 라만 자기-시프팅에 의해, 제 1 파장 λ1 보다 엄밀히 큰 제 2 파장 λ2 에서 기본 솔리톤을 생성하는데 적합한 주파수 시프트하는 파이버 (232) 를 포함한다.

대표청구항 ▼

펨토초 레이저 소스로서,- 출력 (exit) 광 파이버 (212) 를 통해, 제 1 파장 λ1 에서, 제 1 피코초 펄스를 전달하는데 적합한, 주어진 도펀트로 도핑된 광 파이버에 기초한 인젝팅 레이저 발진기 (211);- 상기 제 1 펄스로부터, 상기 제 1 펄스에 대하여 증폭되는 에너지로, 상기 제 1 파장에서, 제 2 펄스를 생성하기 위한 증폭 광 파이버 (229) 에 기초한 전력 증폭기 (220) 로서, 상기 증폭 광 파이버 (229) 는 상기 인젝팅 발진기의 상기 광 파이버 (212) 와 동일한 도펀트로 도핑되고, 솔리톤 압

펨토초 레이저 소스로서,- 출력 (exit) 광 파이버 (212) 를 통해, 제 1 파장 λ1 에서, 제 1 피코초 펄스를 전달하는데 적합한, 주어진 도펀트로 도핑된 광 파이버에 기초한 인젝팅 레이저 발진기 (211);- 상기 제 1 펄스로부터, 상기 제 1 펄스에 대하여 증폭되는 에너지로, 상기 제 1 파장에서, 제 2 펄스를 생성하기 위한 증폭 광 파이버 (229) 에 기초한 전력 증폭기 (220) 로서, 상기 증폭 광 파이버 (229) 는 상기 인젝팅 발진기의 상기 광 파이버 (212) 와 동일한 도펀트로 도핑되고, 솔리톤 압축 포인트의 거리 이하이고 상기 증폭 광 파이버 (229) 가 비선형 레짐에서 동작하는 거리보다 큰 길이를 갖는, 상기 전력 증폭기 (220); 및- 상기 제 2 펄스를 수신하고 상기 제 1 파장 λ1 보다 엄밀히 긴 제 2 파장 λ2 에서 기본 솔리톤을 라만 자기-시프팅 (Raman self-shifting) 에 의해 생성하는데 적합한 주파수-시프팅 파이버 (232) 를 포함하는, 펨토초 레이저 소스.