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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-7011215 (2019-04-18) | |
공개번호 | 10-2019-0044129 (2019-04-29) | |
등록번호 | 10-2050198-0000 (2019-11-22) | |
우선권정보 | 중국(CN) 201410352367.X (2014-07-22) | |
국제출원번호 | PCT/CN2014/084332 (2014-08-14) | |
국제공개번호 | WO 2016/011683 (2016-01-28) | |
번역문제출일자 | 2019-04-18 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020197011215 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-04-18) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
그래핀볼 전도성 접착제의 제조방법 및 상기 그래핀볼 전도성 접착제에 관한 것으로서, 상기 그래핀볼 전도성 접착제의 제조방법은 단계 1: 모노머, 개시제, 분산제 및 용제를 제공하여 모노머 혼합물을 제조하고, 상기 모노머 혼합물로 고분자 마이크로스피어를 제조하는 단계; 단계 2: 상기 고분자 마이크로스피어에 대해 가열 또는 플라즈마 에칭 전처리를 실시하는 단계; 단계 3: 화학기상증착법을 이용하여 단계 2에서 전처리를 거친 고분자 마이크로스피어 표면 또는 내부에 그래핀을 피복하거나 또는 생장시켜 그래핀볼을 제조하는 단계; 단계 4:
그래핀볼 전도성 접착제의 제조방법에 있어서,단계 1: 모노머, 개시제, 분산제 및 용제를 제공하여 모노머 혼합물을 제조하고, 상기 모노머 혼합물로 고분자 마이크로스피어를 제조하는 단계;단계 2: 상기 고분자 마이크로스피어에 대해 가열 또는 플라즈마 에칭 전처리를 실시하는 단계;단계 3: 화학기상증착법을 이용하여 단계 2에서 전처리를 거친 고분자 마이크로스피어 표면 또는 내부에 그래핀을 피복하거나 또는 생장시켜 그래핀볼을 제조하는 단계;단계 4: 일정 비율의 에폭시 수지, 경화제, 촉진제를 취하여, 균일하게 분산될 때까지 혼합 교반하
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