초록 ▼

본 발명은 모발 섬유, 특히 인간 모발 섬유를 클렌징 및 컨디셔닝하기 위한, 모발용 화장료 조성물에 관한 것으로, 상기 모발용 화장료 조성물은 음이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 티오락틱 산, 티오락틱산 유도체, 이의 염 및 이의 혼합물로부터 선택된 티올-베이스 화합물, 농후제; 비-이온성 계면활성제; 및 물을 포함하며, 상기 조성물의 pH가 2 내지 7 미만인 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 본 발명의 화장료 조성물을 사용하는 클렌징, 컨디셔닝 이점 및 모발 케어 용도일 뿐만 아니라, 스트레이트화 효과, 볼륨 감소,

본 발명은 모발 섬유, 특히 인간 모발 섬유를 클렌징 및 컨디셔닝하기 위한, 모발용 화장료 조성물에 관한 것으로, 상기 모발용 화장료 조성물은 음이온성 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 티오락틱 산, 티오락틱산 유도체, 이의 염 및 이의 혼합물로부터 선택된 티올-베이스 화합물, 농후제; 비-이온성 계면활성제; 및 물을 포함하며, 상기 조성물의 pH가 2 내지 7 미만인 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 본 발명의 화장료 조성물을 사용하는 클렌징, 컨디셔닝 이점 및 모발 케어 용도일 뿐만 아니라, 스트레이트화 효과, 볼륨 감소, 프리즈 조절, 관리편의성, 코스메티시티 및 매끄러운 느낌과 같은 모발 섬유에 대한 모발 케어에 부여하기 위한 공정에 관한 것이다.

대표청구항 ▼

모발 클렌징을 위한 모발용 화장료 조성물로서, a) 설페이트 계면활성제가 아닌, 적어도 하나 이상의 음이온성 계면 활성제;b) 적어도 하나 이상의 양쪽성 계면 활성제;c) 티오락틱 산(thiolactic acid), 이의 염 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 티올-베이스 화합물(thiol-based compound);d) 적어도 하나 이상의 농후제(thickening agent);e) 적어도 하나 이상의 비-이온성 계면 활성제; 및f) 물;을 포함하며, 상기 조성물의 pH가 2 이상 내지 7 미만인

모발 클렌징을 위한 모발용 화장료 조성물로서, a) 설페이트 계면활성제가 아닌, 적어도 하나 이상의 음이온성 계면 활성제;b) 적어도 하나 이상의 양쪽성 계면 활성제;c) 티오락틱 산(thiolactic acid), 이의 염 및 이의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 티올-베이스 화합물(thiol-based compound);d) 적어도 하나 이상의 농후제(thickening agent);e) 적어도 하나 이상의 비-이온성 계면 활성제; 및f) 물;을 포함하며, 상기 조성물의 pH가 2 이상 내지 7 미만인 모발 클렌징을 위한 모발용 화장료 조성물.