초록 ▼

지문 방지 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅된 기판은 하기를 포함하는 코팅 조성물로부터 제조된다: (a) 유기 용매; 및 (b) 하나 이상의 에스테르 결합, 하나 이상의 우레탄 결합 및 하나 이상의 알콕시실란 작용기를 갖는 알콕시실란 작용성 중합체. 또한, 상기 중합체는 (i) 하이드록실 기, 아미노 기, 티올 기 또는 이들의 조합을 갖는 활성 수소 작용성 화합물; (ii) 분자내 사이클릭 에스테르; 및 (iii) 이소시아네이트 작용성 화합물을 포함하는 성분으로부터 제조된다. 상기 활성 수소 작용성 화합물 (i), 상기 이소시아네이트

지문 방지 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅된 기판은 하기를 포함하는 코팅 조성물로부터 제조된다: (a) 유기 용매; 및 (b) 하나 이상의 에스테르 결합, 하나 이상의 우레탄 결합 및 하나 이상의 알콕시실란 작용기를 갖는 알콕시실란 작용성 중합체. 또한, 상기 중합체는 (i) 하이드록실 기, 아미노 기, 티올 기 또는 이들의 조합을 갖는 활성 수소 작용성 화합물; (ii) 분자내 사이클릭 에스테르; 및 (iii) 이소시아네이트 작용성 화합물을 포함하는 성분으로부터 제조된다. 상기 활성 수소 작용성 화합물 (i), 상기 이소시아네이트 작용성 화합물 (iii), 또는 (i) 및 (iii) 둘다는 하나 이상의 알콕시실란 작용기를 갖는다. 알콕시실란 작용성 중합체 및 이를 함유하는 코팅 조성물이 또한 포함된다.

대표청구항 ▼

(a) 유기 용매; 및 (b) 하나 이상의 에스테르 결합(linkage) 및 하나 이상의 우레탄 결합을 포함하는 알콕시실란 작용성 중합체를 포함하는 코팅 조성물로부터 제조된 지문 방지(anti-fingerprint) 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅된 기판으로서, 이때 상기 중합체는(i) 하이드록실 기, 아미노 기, 티올 기 또는 이들의 조합을 포함하는 활성 수소 작용성 화합물;(ii) 분자내(intramolecular) 사이클릭 에스테르; 및(iii) 이소시아네이트 작용성 화합물을 포함하는 성분으로부터 제조되고,상기 활성 수소 작용

(a) 유기 용매; 및 (b) 하나 이상의 에스테르 결합(linkage) 및 하나 이상의 우레탄 결합을 포함하는 알콕시실란 작용성 중합체를 포함하는 코팅 조성물로부터 제조된 지문 방지(anti-fingerprint) 코팅으로 적어도 부분적으로 코팅된 기판으로서, 이때 상기 중합체는(i) 하이드록실 기, 아미노 기, 티올 기 또는 이들의 조합을 포함하는 활성 수소 작용성 화합물;(ii) 분자내(intramolecular) 사이클릭 에스테르; 및(iii) 이소시아네이트 작용성 화합물을 포함하는 성분으로부터 제조되고,상기 활성 수소 작용성 화합물 (i), 상기 이소시아네이트 작용성 화합물 (iii), 또는 (i) 및 (iii) 둘다는 하나 이상의 알콕시실란 작용기를 포함하는, 기판.