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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0001956 (2020-01-07) |
등록번호 | 10-2224020-0000 (2021-03-02) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200001956 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-01-07) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 저수축, 저점도 중전기기용 에폭시 소재 조성물 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 상기 실리카는 평균입도(D50)가 23㎛ 이상이면서 SiO2가 주원료이며 Fe2O3, Al2O3, TiO2, CaO 및 K2O를 불순물로 포함하고 있으며, 특히 실리카 내 K2O 함량은 0.04중량% 이하인 실리카를 혼합하여 저수축, 저점도의 특성을 나타내는 저수축, 저점도 중전기기용 에폭시 소재 조성물 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 저수축, 저점도 중전기기용 에폭시 소재 조성물 및 이의 제조 방법은 에폭
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