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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0006636 (2020-01-17) | |
공개번호 | 10-2021-0093011 (2021-07-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200006636 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-01-17) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 전구체 화합물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition; ALD) 또는 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition; CVD)을 통하여 박막 증착에 이용 가능한 주기율표 상 13족의 금속을 포함하는 전구체 화합물 및 이를 이용한 박막의 제조방법에 관한 것이다.
하기 화학식 1로서 표시되는 화합물:[화학식 1]상기 화학식 1에서, M이 주기율표 상 13족의 금속이고,R1, R2,R4 및 R5는 동일하거나 또는 상이하고 각각 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 4의 선형 또는 분지형 탄화수소 또는 이들의 이성질체이며,R3는 치환 또는 비치환된 탄소수 4 내지 6의 선형 또는 분지형 탄화수소 또는 이들의 이성질체임.
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