초록 ▼

포토레지스트를 사용하는 것 없이 펨토초레이저 가공을 이용한 다이렉트 패터닝 기법에 의해, 5㎛ 이하의 선폭으로 플렉서블한 특성을 갖는 대면적 투명전극을 제조할 수 있는 펨토초레이저 가공을 이용한 투명전극 제조 방법에 대하여 개시한다.본 발명에 따른 펨토초레이저 가공을 이용한 투명전극 제조 방법은 (a) 하드몰드 기판의 상면을 다이렉트 패터닝 방식의 펨토초레이저 가공 처리로 패터닝을 실시하여 미세 패턴을 형성하는 단계; (b) 상기 미세 패턴이 형성된 하드몰드 기판의 상면을 덮는 UV 레진층을 형성한 후, 상기 UV 레진층 상에 플렉

포토레지스트를 사용하는 것 없이 펨토초레이저 가공을 이용한 다이렉트 패터닝 기법에 의해, 5㎛ 이하의 선폭으로 플렉서블한 특성을 갖는 대면적 투명전극을 제조할 수 있는 펨토초레이저 가공을 이용한 투명전극 제조 방법에 대하여 개시한다.본 발명에 따른 펨토초레이저 가공을 이용한 투명전극 제조 방법은 (a) 하드몰드 기판의 상면을 다이렉트 패터닝 방식의 펨토초레이저 가공 처리로 패터닝을 실시하여 미세 패턴을 형성하는 단계; (b) 상기 미세 패턴이 형성된 하드몰드 기판의 상면을 덮는 UV 레진층을 형성한 후, 상기 UV 레진층 상에 플렉서블 기판을 부착하는 단계; (c) 상기 UV 레진층 및 플렉서블 기판을 하드몰드 기판으로부터 분리시켜, 상기 하드몰드 기판의 미세 패턴에 의해 전사되는 UV 레진 패턴을 갖는 플렉서블 기판을 수득하는 단계; (d) 상기 UV 레진 패턴이 형성된 플렉서블 기판 상에 금속 잉크층을 형성한 후, 상기 금속 잉크층의 일부 두께를 제거하여 UV 레진 패턴을 노출시키는 단계; 및 (e) 상기 노출된 UV 레진 패턴을 제거하여 투명전극을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

(a) 하드몰드 기판의 상면을 다이렉트 패터닝 방식의 펨토초레이저 가공 처리로 패터닝을 실시하여 미세 패턴을 형성하는 단계; (b) 상기 미세 패턴이 형성된 하드몰드 기판의 상면을 덮는 UV 레진층을 형성한 후, 상기 UV 레진층 상에 플렉서블 기판을 부착하는 단계; (c) 상기 UV 레진층 및 플렉서블 기판을 하드몰드 기판으로부터 분리시켜, 상기 하드몰드 기판의 미세 패턴에 의해 전사되는 UV 레진 패턴을 갖는 플렉서블 기판을 수득하는 단계; (d) 상기 UV 레진 패턴이 형성된 플렉서블 기판 상에 금속 잉크층을 형성한 후, 상기

(a) 하드몰드 기판의 상면을 다이렉트 패터닝 방식의 펨토초레이저 가공 처리로 패터닝을 실시하여 미세 패턴을 형성하는 단계; (b) 상기 미세 패턴이 형성된 하드몰드 기판의 상면을 덮는 UV 레진층을 형성한 후, 상기 UV 레진층 상에 플렉서블 기판을 부착하는 단계; (c) 상기 UV 레진층 및 플렉서블 기판을 하드몰드 기판으로부터 분리시켜, 상기 하드몰드 기판의 미세 패턴에 의해 전사되는 UV 레진 패턴을 갖는 플렉서블 기판을 수득하는 단계; (d) 상기 UV 레진 패턴이 형성된 플렉서블 기판 상에 금속 잉크층을 형성한 후, 상기 금속 잉크층의 일부 두께를 제거하여 UV 레진 패턴을 노출시키는 단계; 및 (e) 상기 노출된 UV 레진 패턴을 제거하여 투명전극을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 (a) 단계에서, 상기 펨토초레이저 가공 처리는 0.1nm ~ 1㎛의 빔 사이즈를 갖는 펨토초레이저를 5 ~ 500mm/sec의 가공속도로 조사하고, 상기 (a) 단계에서, 상기 미세 패턴은 펨토초레이저 가공 장치로부터 조사되는 펨토초레이저를 상기 하드몰드 기판에 선택적으로 조사하는 상기 펨토초레이저 가공 처리를 이용한 다이렉트 패터닝 방식으로 상기 하드몰드 기판의 일부만을 선택적으로 제거하는 것에 의해 형성되고, 상기 (e) 단계에서, 상기 투명전극은 상기 미세 패턴과 동일한 형상을 갖되, 상기 투명전극은 사각형, 줄무늬, 삼각형, 마름모 및 오각형 중 어느 하나의 형상을 가지며, 상기 투명전극은 0.5 ~ 5㎛의 선폭을 갖고, 상기 투명전극은 50㎛ ~ 1mm의 선 간격을 가지며, 상기 투명 전극은 550nm에서의 투과도 85% 이상 및 면저항 10Ω/square 이하를 갖는 것을 특징으로 하는 펨토초레이저 가공을 이용한 투명전극 제조 방법.