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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0016101 (2020-02-11) | |
공개번호 | 10-2021-0101758 (2021-08-19) | |
등록번호 | 10-2355045-0000 (2022-01-19) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200016101 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-02-11) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
포토레지스트를 사용하는 것 없이 펨토초레이저 가공을 이용한 다이렉트 패터닝 기법에 의해, 5㎛ 이하의 선폭으로 플렉서블한 특성을 갖는 대면적 투명전극을 제조할 수 있는 펨토초레이저 가공을 이용한 투명전극 제조 방법에 대하여 개시한다.본 발명에 따른 펨토초레이저 가공을 이용한 투명전극 제조 방법은 (a) 하드몰드 기판의 상면을 다이렉트 패터닝 방식의 펨토초레이저 가공 처리로 패터닝을 실시하여 미세 패턴을 형성하는 단계; (b) 상기 미세 패턴이 형성된 하드몰드 기판의 상면을 덮는 UV 레진층을 형성한 후, 상기 UV 레진층 상에 플렉
(a) 하드몰드 기판의 상면을 다이렉트 패터닝 방식의 펨토초레이저 가공 처리로 패터닝을 실시하여 미세 패턴을 형성하는 단계; (b) 상기 미세 패턴이 형성된 하드몰드 기판의 상면을 덮는 UV 레진층을 형성한 후, 상기 UV 레진층 상에 플렉서블 기판을 부착하는 단계; (c) 상기 UV 레진층 및 플렉서블 기판을 하드몰드 기판으로부터 분리시켜, 상기 하드몰드 기판의 미세 패턴에 의해 전사되는 UV 레진 패턴을 갖는 플렉서블 기판을 수득하는 단계; (d) 상기 UV 레진 패턴이 형성된 플렉서블 기판 상에 금속 잉크층을 형성한 후, 상기
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