[특허]다초점 마이크로렌즈 및 이의 제조방법

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	G02B-003/00 G02B-001/10
출원번호	10-2020-0025267 (2020-02-28)
공개번호	10-2021-0110454 (2021-09-08)
등록번호	10-2427976-0000 (2022-07-28)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020200025267
발명자 / 주소	유영웅 / 서울특별시 서초구 방배로 *, 동*호(방배동, 동부센트레빌아파트) 조철훈 / 경기도 고양시 일산동구 탄중로 , *동호(중산동, 중산마을단지아파트) 김남중 / 경기도 남양주시 와부읍 덕소로 *, 동*호(강변현대아파트) 정기훈 / 대전광역시 유성구 대덕대로 * 로덴하우스 배상인 / 대전광역시 서구 문예로 * 김기수 / 대전시 유성구 상대로 도안트리플시티*단지
출원인 / 주소	(주)펨트론 / 서울특별시 금천구 가산디지털로 , *호 (가산동, 벽산 디지털밸리) 한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소	특허법인남촌
심사청구여부	있음 (2020-02-28)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 다초점 마이크로렌즈의 제조방법은, S10) 웨이퍼의 일면에 제1포토레지스트가 도포되어 코팅되고, 제1포토레지스트가 소부처리(Soft bake)되어, 웨이퍼 상에 싱글층(single layer)이 형성되는 단계; S20) 제1패턴을 가진 제1포토마스크를 통과한 UV광에 의해, 싱글층이 제1패턴으로 노광처리되어, 제1패턴에 의한 마이크로포스트 어레이가 싱글층에 형성되는 단계; S30) 싱글층으로 제2포토레지스트가 도포되어 코팅되고, 제2포토레지스트가 소부처리(Soft bake)되어 더블층(double

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 다초점 마이크로렌즈의 제조방법은, S10) 웨이퍼의 일면에 제1포토레지스트가 도포되어 코팅되고, 제1포토레지스트가 소부처리(Soft bake)되어, 웨이퍼 상에 싱글층(single layer)이 형성되는 단계; S20) 제1패턴을 가진 제1포토마스크를 통과한 UV광에 의해, 싱글층이 제1패턴으로 노광처리되어, 제1패턴에 의한 마이크로포스트 어레이가 싱글층에 형성되는 단계; S30) 싱글층으로 제2포토레지스트가 도포되어 코팅되고, 제2포토레지스트가 소부처리(Soft bake)되어 더블층(double layer)이 형성되는 단계; S40) 제2패턴을 가진 제2포토마스크를 통과한 UV광에 의해, 더블층이 제1패턴 중 일부와 중첩되는 패턴인 제2패턴으로 노광처리되어, 제2패턴에 의한 마이크로포스트 어레이가 더블층에 형성되는 단계; S50) 웨이퍼의 일면으로 현상액이 도포되고, 현상액에 의해 제1패턴과 제2패턴을 제외한 부분에서 제1포토레지스트와 제2포토레지스트가 제거되면서, 더블층의 두께만큼 단차지게 서로 다른 두께를 가진 복수의 마이크로포스트가 웨이퍼의 일면에 마련되는 단계; 및 S60) 복수의 마이크로포스트에 대한 열적 리플로우(thermal reflow)을 통해, 복수의 마이크로포스트가 서로 다른 두께와 곡률을 가진 복수의 렌즈로 형성되는 단계를 포함하여, S50단계에서, 복수의 마이크로포스트는 제1패턴에 의한 마이크로포스트 어레이와 제2패턴에 의한 마이크로포스트 어레이를 형성하고, S60단계에서, 복수의 렌즈는 동일 직경을 가지되, 서로 다른 두께와 곡률로, 서로 다른 초점거리를 가진 렌즈 어레이를 형성하는 것이 바람직하다.

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A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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