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[한국특허] 멤스 소자 및 멤스 디바이스의 제조 방법
A MEMS Device And The Manufacturing Method of the MEMS Device
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B81B-007/00
출원번호 10-2020-0029598 (2020-03-10)
공개번호 10-2020-0033240 (2020-03-27)
등록번호 10-2186653-0000 (2020-11-30)
DOI http://doi.org/10.8080/1020200029598
발명자 / 주소
  • 오재섭 / 대전광역시 유성구 대학로 *** 한국과학기술원
  • 이종권 / 대전광역시 유성구 대학로 *** 한국과학기술원
  • 박종철 / 대전광역시 유성구 대학로 *** 한국과학기술원
  • 김태현 / 대전광역시 유성구 대학로 *** 한국과학기술원
  • 김광희 / 대전광역시 유성구 대학로 *** 한국과학기술원
출원인 / 주소
  • 한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 누리
심사청구여부 있음 (2020-03-10)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명의 일 실시에에 따른 멤스 소자는, 적외선 센서를 구비한 센서 기판; 및 상기 하부 기판과 접합되어 케비티를 구성하는 캡 기판을 포함한다. 상기 캡 기판은, 상부 기판; 상기 상부 기판의 상부면에 형성된 나방눈(Moth-eye) 구조의 상부 패턴; 상기 상부 패턴을 마주보도록 배치되고 상기 상부 기판의 하부면에서 함몰된 케비티 영역에 형성된 나방눈(Moth-eye) 구조의 하부 패턴; 상기 하부 패턴의 주위에 배치되고 상기 케비티 영역 내에 배치된 게터; 상기 상부 기판의 하부면에서 상기 케비티 영역보다 돌출되고 상기 상부

대표청구항

상부 기판;상기 상부 기판의 상부면에 형성된 나방눈(Moth-eye) 구조의 상부 패턴;상기 상부 패턴을 마주보도록 배치되고 상기 상부 기판의 하부면에서 함몰된 케비티 영역에 형성된 나방눈(Moth-eye) 구조의 하부 패턴;상기 하부 패턴의 주위에 배치되고 상기 케비티 영역 내에 배치된 게터;상기 상부 기판의 하부면에서 상기 케비티 영역보다 돌출되고 상기 상부 기판과 동일한 구조와 재질을 가지고 상기 케비티 영역을 감싸도록 배치된 격벽;상기 상부 기판의 하부면에서 상기 케비티 영역의 배치평면보다 더 함몰되고 상기 격벽을 감싸도록

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. [한국] 고온 공정이 가능한 MEMS 디바이스 제조방법 | 이귀로, 임성규, 김영수
  2. [한국] 적외선 복사 마이크로 장치를 위한 하우징 및 이러한 하우징을 제작하기 위한 방법 | 라이너트, 볼프강, 무엔제르, 조쉔, 티넨스, 세바스티안, 로만, 세실
  3. [일본] THERMAL-TYPE INFRARED-RAY SENSOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME | NOGUCHI EIGO

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