[특허]광-감응하는, 블록공중합체 입자 및 이의 제조방법

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[한국특허] 광-감응하는, 블록공중합체 입자 및 이의 제조방법
LIGHT-RESPONSIVE BLOCK COPOLYMER PARTICLES AND PREPARATION METHOD THEREOF 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	C08L-053/00 C08J-003/075 C08J-003/12 C08L-025/08 C08L-039/08 G03F-007/20
출원번호	10-2020-0030167 (2020-03-11)
등록번호	10-2249643-0000 (2021-05-03)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020200030167
발명자 / 주소	김범준 / 대전광역시 유성구 대학로 *(구성동) 이준혁 / 대전광역시 유성구 대학로 (구성동) 구강희 / 대전광역시 유성구 대학로 (구성동) 이영준 / 대전광역시 유성구 대학로 *(구성동)
출원인 / 주소	한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소	특허법인 무한
심사청구여부	있음 (2020-03-11)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

본 발명은, 광-감응하는, 블록공중합체 입자 및 이의 제조방법에 관한 것으로 보다 구체적으로, 블록공중합체 및 광 감응성 계면활성제를 포함하고, 광-감응하는, 블록공중합체 입자 및 이의 제조방법에 관한 것이다.또한, 본 발명은, 본 발명에 의한 블록공중합체 입자를 포함하는 광-감응하는 조성물, 디스플레이 부품 및 상기조성물을 이용한 패터닝 방법에 관한 것이다.

대표청구항

하기의 화학식 1로 표시되는 블록공중합체 중 하나 이상; 및광 감응성 계면활성제;를 포함하는, 블록공중합체 입자로서, 상기 블록공중합체 입자는, 광에 감응하여, 색 변화, 형광 강도 변화 또는 이 둘을 나타내는 것인,광-감응하는, 블록공중합체 입자:[화학식 1]PS-b-PnVP(여기서, PS는 폴리스티렌(polystyrene)이고, PnVP는 P2VP (poly(2-vinylpyridine)) 또는P4VP (poly(4-vinylpyridine))이다.)

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1) 인용/피인용 타임라인 분석

[한국] 가역적 변형 입자 및 그 제조방법 | 김범준, 이준혁, 구강희
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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