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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0033399 (2020-03-18) | |
공개번호 | 10-2021-0117062 (2021-09-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200033399 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
시선 추적 장치에서, 회절 광학 소자가 광원 앞에 장착되어 있으며, 광원으로부터의 광에 따라 회절 패턴을 생성한다. 카메라는 회절 패턴에 따른 광이 사용자의 안구에 반사되는 상태에서 안구를 촬영한다. 프로세서는 카메라가 촬영한 안구의 영상으로부터 동공의 중심의 위치를 검출하고, 영상으로부터 회절 패턴의 중심의 위치를 검출하며, 동공의 중심의 위치와 회절 패턴의 중심의 위치에 기초해서 사용자의 시선의 위치를 검출한다.
광원,상기 광원 앞에 장착되어 있으며, 상기 광원으로부터의 광에 따라 회절 패턴을 생성하는 회절 광학 소자,상기 회절 패턴에 따른 광이 사용자의 안구에 반사되는 상태에서, 상기 안구를 촬영하는 카메라, 그리고상기 카메라가 촬영한 상기 안구의 영상으로부터 동공의 중심의 위치를 검출하고, 상기 영상으로부터 상기 회절 패턴의 중심의 위치를 검출하며, 상기 동공의 중심의 위치와 상기 회절 패턴의 중심의 위치에 기초해서 상기 사용자의 시선의 위치를 검출하는 프로세서를 포함하는 시선 추적 장치.
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