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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2020-0040687 (2020-04-03) | |
| 등록번호 | 10-2272906-0000 (2021-06-29) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020200040687 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2020-04-03) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은, 패턴을 가지는 템플릿 상에 나노 구조체를 형성하여 리시버 기판에 나노 패턴을 전사하는 방법으로서 템플릿이 수용성 고분자로 형성되는 나노 패턴 전사 방법 및, 리시버 기판에 나노 패턴 전사시 이용되는 템플릿으로서 템플릿이 수용성 고분자로 형성되는 나노 패턴 전사용 템플릿을 제공한다.
패턴을 가지는 템플릿 상에 나노 구조체를 형성하여 리시버 기판에 나노 패턴을 전사하는 방법으로서,수용성 고분자로 형성되며, 패턴을 가지는 템플릿을 준비하는 단계;상기 템플릿의 패턴 상에 나노 구조체를 형성하는 단계;상기 리시버 기판 상에 상기 템플릿을 배치시키고, 상기 템플릿에 수분을 공급하는 단계; 및상기 템플릿에 공급된 수분에 의해 상기 템플릿이 용해되어 상기 나노 구조체가 상기 리시버 기판 상에 전사되는 단계;를 포함하고,상기 리시버 기판 상에 상기 템플릿을 배치시키는 단계에서는,상기 나노 구조체가 형성된 상기 템플릿의 상면이
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