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[한국특허] ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법 및 그에 따른 활성이 향상된 금속 촉매
Method for preparing metal catalyst deposited with inorganic film by ALD process and metal catalyst with improved activity
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B01J-037/02
  • B01D-053/86
  • B01J-023/42
  • C23C-016/40
  • C23C-016/44
  • C23C-016/455
출원번호 10-2020-0042648 (2020-04-08)
공개번호 10-2021-0125227 (2021-10-18)
DOI http://doi.org/10.8080/1020200042648
발명자 / 주소
  • 조영진 / 대전광역시 유성구 가정로 ** 한화솔루션 중앙연구소
  • 김도흥 / 대전광역시 유성구 가정로 ** 한화솔루션 중앙연구소
  • 우은지 / 대전광역시 유성구 가정로 ** 한화솔루션 중앙연구소
  • 장원태 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
  • 최건우 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
  • 임성갑 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
출원인 / 주소
  • 한화솔루션 주식회사 / 서울특별시 중구 청계천로 ** (장교동)
  • 한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소
  • 김창덕
심사청구여부 있음 (2021-05-03)
심사진행상태 거절결정(재심사)
법적상태 거절

초록

본 발명은 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법 및 그에 따른 금속 촉매에 관한 것이다. 보다 자세하게는, ALD 공정에서 촉매의 표면에서 낮은 배위수를 갖는 부분에 반응물의 선택적 흡착을 유도하는 단계를 포함하여, 무기막층과의 촉매 간의 상호작용을 유도하고 촉매의 활성점을 최대한 확보하고자 한다.

대표청구항

(a) 원자층 증착법(ALD)을 이용하여 담지 촉매에 전구체를 주입하여, 촉매 표면의 낮은 배위수를 갖는 부분에 전구체의 선택적 흡착을 유도하는 단계; (b) 퍼지(purge)하는 단계;(c) 산화제를 주입하고, 이를 촉매 표면에서 선택적으로 흡착된 전구체와 반응하여 무기막을 증착시키는 단계; 및 (d) 퍼지(purge)하는 단계;를 포함하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. [한국] 촉매 | 라지라오람자람, 존윌리암하이어스, 그라함파울안셀, 헬렌안네해쳐
  2. [한국] 일산화탄소 및/또는 휘발성 유기 화합물의 산화를 위한 촉매 | 양, 샤오린, 트란, 파스칼린, 후, 칭위안
  3. [유럽] Precious metal catalyst supported on a silicate; its use for selective oxidation of carbon monoxide and for hydrogen refining | Nojima, Shigeru, Mitsubishi Heavy Ind., Ltd., Yasutake, Toshinobu, Mitsubishi Heavy Ind., Ltd.

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