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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0042648 (2020-04-08) | |
공개번호 | 10-2021-0125227 (2021-10-18) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200042648 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-05-03) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법 및 그에 따른 금속 촉매에 관한 것이다. 보다 자세하게는, ALD 공정에서 촉매의 표면에서 낮은 배위수를 갖는 부분에 반응물의 선택적 흡착을 유도하는 단계를 포함하여, 무기막층과의 촉매 간의 상호작용을 유도하고 촉매의 활성점을 최대한 확보하고자 한다.
(a) 원자층 증착법(ALD)을 이용하여 담지 촉매에 전구체를 주입하여, 촉매 표면의 낮은 배위수를 갖는 부분에 전구체의 선택적 흡착을 유도하는 단계; (b) 퍼지(purge)하는 단계;(c) 산화제를 주입하고, 이를 촉매 표면에서 선택적으로 흡착된 전구체와 반응하여 무기막을 증착시키는 단계; 및 (d) 퍼지(purge)하는 단계;를 포함하는 ALD 공정에 의한 무기막이 증착된 금속 촉매의 제조방법.
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