송하석
/ 서울특별시 금천구 금하로 ***, ***동 ****호(시흥동, 벽산*단지아파트)
출원인 / 주소
(주)뉴트라파낙스 / 서울특별시 구로구 새말로 ** ,**층*호(구로동,신도림테크노마트)
대리인 / 주소
특허법인메이저
심사청구여부
있음 (2020-04-08)
심사진행상태
등록결정(일반)
법적상태
등록
초록▼
본 발명은 잔류농약과 프탈레이트 성분이 저감된 컴파운드 고함량 조성물의 제조방법 및 그 방법에 의한 컴파운드 고함량 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 35~60℃의 가온수와 오존 가스를 이용하여 마이크로버블 오존수를 형성하는 단계와, 상기 마이크로버블 오존수에 원료 삼을 침지시키는 단계와, 상기 침지된 원료 삼을 건조시키는 단계와, 상기 건조된 원료 삼의 표면에 비열 플라즈마를 처리하는 단계와, 상기 비열 플라즈마 처리된 원료 삼을 주정이 수용된 추출기 내에 수용시키고 열을 가하여 추출액을 추출하는 단계와, 상기 추출된 추출액
본 발명은 잔류농약과 프탈레이트 성분이 저감된 컴파운드 고함량 조성물의 제조방법 및 그 방법에 의한 컴파운드 고함량 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 35~60℃의 가온수와 오존 가스를 이용하여 마이크로버블 오존수를 형성하는 단계와, 상기 마이크로버블 오존수에 원료 삼을 침지시키는 단계와, 상기 침지된 원료 삼을 건조시키는 단계와, 상기 건조된 원료 삼의 표면에 비열 플라즈마를 처리하는 단계와, 상기 비열 플라즈마 처리된 원료 삼을 주정이 수용된 추출기 내에 수용시키고 열을 가하여 추출액을 추출하는 단계와, 상기 추출된 추출액에 사이토레이즈 PCL5(Cytolase PCL5)를 첨가하여 제1 배양물을 제조하는 단계와, 상기 제1 배양물을 열처리하는 단계와, 상기 열처리한 제1 배양물에 Pyr-Flo를 첨가하여 제2 배양물을 제조하는 단계와, 상기 제2 배양물을 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
대표청구항▼
35~60℃의 가온수와 오존 가스를 이용하여 마이크로버블 오존수를 형성하는 단계와,상기 마이크로버블 오존수에 원료 삼을 침지시키는 단계와,상기 침지된 원료 삼을 건조시키는 단계와,상기 건조된 원료 삼의 표면에 비열 플라즈마를 처리하는 단계와,상기 비열 플라즈마 처리된 원료 삼을 주정이 수용된 추출기 내에 수용시키고 열을 가하여 추출액을 추출하는 단계와,상기 추출된 추출액에 사이토레이즈 PCL5(Cytolase PCL5)를 첨가하여 제1 배양물을 제조하는 단계와,상기 제1 배양물을 열처리하는 단계와,상기 열처리한 제1 배양물에 Pyr
35~60℃의 가온수와 오존 가스를 이용하여 마이크로버블 오존수를 형성하는 단계와,상기 마이크로버블 오존수에 원료 삼을 침지시키는 단계와,상기 침지된 원료 삼을 건조시키는 단계와,상기 건조된 원료 삼의 표면에 비열 플라즈마를 처리하는 단계와,상기 비열 플라즈마 처리된 원료 삼을 주정이 수용된 추출기 내에 수용시키고 열을 가하여 추출액을 추출하는 단계와,상기 추출된 추출액에 사이토레이즈 PCL5(Cytolase PCL5)를 첨가하여 제1 배양물을 제조하는 단계와,상기 제1 배양물을 열처리하는 단계와,상기 열처리한 제1 배양물에 Pyr-Flo를 첨가하여 제2 배양물을 제조하는 단계와, 상기 제2 배양물을 열처리하는 단계를 포함하며,상기 마이크로버블 오존수는,마이크로버블의 평균 입자크기가 10~80㎛이고, 오존의 농도가 2~8ppm인 것이며,상기 비열 플라즈마 처리된 원료 삼을 주정이 수용된 추출기 내에 수용시키고 열을 가하여 추출액을 추출하는 단계는,상기 비열 플라즈마 처리된 원료 삼을 주정이 수용된 추출기 내에 수용시키고, 상기 추출기 내에 초음파를 가한 후, 이에 열을 가하여 추출액을 추출하는 것이고,상기 초음파를 가하는 방법은, 진동주파수 40KHz로 5~10분간 가하는 것임을 특징으로 하는 잔류농약과 프탈레이트 성분이 저감된 컴파운드 K 고함량 조성물의 제조방법.
연구과제 타임라인
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이 특허에 인용된 특허 (2)
[한국]
수확한 인삼을 오존수로 수경 재배하는 방법, 및 수경 재배되어 싹 틘 인삼용 화분 컵 |
서경석
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