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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0051919 (2020-04-29) | |
등록번호 | 10-2280900-0000 (2021-07-19) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200051919 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-04-29) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은, a) 실리콘 원료인 실리콘 글래뉼 을 고속 기계적 밀링장치를 이용하여 평균 입경 3㎛ 이하의 실리콘 입자를 제조하는 단계; 및 b) 상기 a) 단계의 실리콘 입자와 유기 용매의 혼합물을 일정한 압력의 마이크로플루다이저를 이용하여 평균 입경 500nm 이하의 실리콘 나노 입자로 제조하는 단계;를 포함하는 실리콘 나노 입자의 제조방법에 관한 것이다.
a) 실리콘 원료인 실리콘 그래뉼을 고속 기계적 밀링장치를 이용하여 평균 입경 3㎛ 이하의 실리콘 입자를 제조하는 단계; 및 b) 상기 a) 단계의 실리콘 입자와 유기 용매의 혼합물을 일정한 압력의 마이크로플루다이저를 이용하여 평균 입경 150nm 이하의 실리콘 나노 입자로 제조하는 단계;를 포함하며, 상기 압력은 2,500bar 내지 3,000bar 이고, 상기 마이크로플루다이저는 노즐이 서로 다른 2개를 사용하여 2단계로 진행되며, 상기 2단계는 노즐 구경이 큰 마이크로플루다이저를 적용(b-1 단계)한 후에 노즐 구경이 작은 마
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