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연합인증

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수소수를 포함하는 기능성 세정액 및 이를 이용한 CMP 공정 후 웨이퍼 세정 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C11D-003/00
  • C11D-011/00
  • H01L-021/02
  • H01L-021/304
출원번호 10-2020-0054976 (2020-05-08)
공개번호 10-2020-0133177 (2020-11-26)
우선권정보 대한민국(KR) 1020190058012 (2019-05-17)
DOI http://doi.org/10.8080/1020200054976
발명자 / 주소
  • 홍석준 / 경기도 시흥시 정왕신길로**번길 *, ***동 ***호
  • 김태성 / 서울특별시 강남구 도산대로***길 **-* ***호 (청담동)
  • 박상현 / 경기도 군포시 고산로***번길 * ***동 ***호 (당정동,한솔솔파크아파트)
  • 이인구 / 경기도 수원시 영통구 광교호수공원로 **, ****-****
  • 박기홍 / 경기도 수원시 장안구 율전로 **-** (율전동)
출원인 / 주소
  • 성균관대학교산학협력단 / 경기도 수원시 장안구 서부로 **** (천천동, 성균관대학교내)
대리인 / 주소
  • 조영현
심사청구여부 있음 (2020-05-08)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

본 발명은 수소수를 포함하는 기능성 세정액 및 이를 이용한 CMP 공정 후 웨이퍼 세정 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로 산화 세륨(ceria) 입자를 사용한 CMP 연마 공정 후 웨이퍼 표면을 효과적으로 세정할 수 있는 기능성 세정액 및 이를 이용한 CMP 공정 후 웨이퍼 세정 방법에 관한 것이다.

대표청구항

수소수를 포함하는, 반도체 웨이퍼의 화학적 기계적 평탄화(CMP) 후 세정 또는 버프 클린(Buff clean)을 위한 세정 조성물.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [일본] DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING GAS-DISSOLVED WATER, DEVICE AND METHOD FOR ULTRASONIC CLEANING | OZAWA TAKU, SHINJO RYOICHI, HARADA MINORU, SAITO TAKAYUKI, SASAKI KENICHI, MURAKAWA KEIICHI, SHIMAMURA KAZUHIDE
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  2. [한국] 수소수 제조장치 | 지은상
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