[특허]뉴로모픽 시스템에서 뉴런 동작을 수행하는 수직형 트랜지스터의 구조와 동작 방법 및 이를 이용한 뉴로모픽 시스템

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[한국특허] 뉴로모픽 시스템에서 뉴런 동작을 수행하는 수직형 트랜지스터의 구조와 동작 방법 및 이를 이용한 뉴로모픽 시스템
structure and operation method of vertical-type transistor acting as a neuron in neuromorphic system, and a neuromorphic system using it 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-045/00 G06N-003/063 H01L-021/02 H01L-021/225 H01L-021/265 H01L-021/8234 H01L-029/06 H01L-029/66 H01L-029/732
출원번호	10-2020-0067970 (2020-06-05)
공개번호	10-2020-0141391 (2020-12-18)
등록번호	10-2374300-0000 (2022-03-10)
우선권정보	대한민국(KR) 1020190067919 (2019-06-10)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020200067970
발명자 / 주소	최양규 / 대전광역시 유성구 대학로 * (구성동, 한국과학기술원) 한준규 / 대전광역시 유성구 대학로 * (구성동, 한국과학기술원)
출원인 / 주소	한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소	양성보
심사청구여부	있음 (2020-06-05)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록 ▼

본 발명은 나노선 형태의 부유 바디층이 수직으로 형성된 수직형 트랜지스터에 전하를 저장 및 방출하여 뉴런의 스파이크 동작을 구현하는 수직형 트랜지스터의 구조와 동작 방법 및 이를 이용한 뉴로모픽 시스템에 관한 것으로, 기판 상에 수직으로 형성된 수직 나노선(nanowire) 형태의 부유 바디층, 상기 부유 바디층 상하에 형성되는 소스 및 드레인, 상기 소스 상에 형성되어 상기 부유 바디층을 둘러싸는 게이트 절연막, 상기 게이트 절연막의 외곽에 형성되는 게이트 및 상기 소스, 상기 드레인 및 상기 게이트에 접촉되어 전기적 신호를 입력

대표청구항 ▼

기판 상에 수직으로 형성된 수직 나노선(nanowire) 형태의 부유 바디층;상기 부유 바디층 상하에 형성되는 소스 및 드레인;상기 소스 상에 형성되어 상기 부유 바디층을 둘러싸는 게이트 절연막;상기 게이트 절연막의 외곽에 형성되는 게이트; 및상기 소스, 상기 드레인 및 상기 게이트에 접촉되어 전기적 신호를 입력 또는 출력하는 컨택 메탈을 포함하되,이전 시냅스 소자에서 상기 소스 또는 상기 드레인으로 전류 신호가 인가되면 전하가 상기 부유 바디층 내부에 저장되며, 저장된 전하의 양이 임계치 이상이 되면, 저장된 전하가 상기 부유 바

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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