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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2020-0073782 (2020-06-17) | |
| 공개번호 | 10-2021-0156082 (2021-12-24) | |
| 등록번호 | 10-2458498-0000 (2022-10-20) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020200073782 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2020-06-17) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 반도체 및 디스플레이 제조공정에 사용되고 배출되는 난분해성 처리가스(PFCs 계열 (CF4, C2F6, C2F4, SF6 및 NF3 및 화학공정에서 배출되는 여타 다양한 난분해성 유해가스에 포함된 분진을 제거하는 상향류 방식 2단 직간접식 정전분무장치에 관한 것이다.
입자상 오염물질을 함유하는 폐가스를 유도하는 가스 유입관(110)이 하측 측면에 형성되며, 상광하협의 구조로 빈 공간부를 형성하는 하부몸체부(100);원통형 구조이며, 하부는 상기 하부몸체부의 상부와 연결되고, 상부 소정 위치에 간접정전분무유닛(210)을 포함하는 중간몸체부(200); 및하부는 상기 중간몸체부의 상부와 연결되고, 상부 소정 위치에 건습식정전분무유닛(310);이 형성되고, 상협하광의 구조로 형성하는 상부몸체부(300);를 포함하며,상기 건습식정전분무유닛은 상부몸체부의 측면에서 도입되어 중심축에 형성된 건습식정전분무관(
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