[특허]이종접합 전계효과 트랜지스터

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[한국특허] 이종접합 전계효과 트랜지스터
Heterojunction field effect transistor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-029/778 H01L-021/02 H01L-029/20
출원번호	10-2020-0110533 (2020-08-31)
공개번호	10-2022-0028902 (2022-03-08)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020200110533
발명자 / 주소	차호영 / 서울특별시 송파구 양재대로 ** 올림픽선수촌아파트 동 호 서광석 / 서울특별시 강남구 개포로 * 우성차아파트 동 *호 장원호 / 서울특별시 관악구 관악로길 관악푸르지오아파트 동 호 황일환 / 대전광역시 유성구 유성대로번길 -*
출원인 / 주소	홍익대학교 산학협력단 / 서울특별시 마포구 와우산로 ** (상수동)
대리인 / 주소	특허법인 천지
심사청구여부	있음 (2020-08-31)
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록 ▼

본 발명은 2차원 전자채널에서의 전자 농도를 증가시킬 수 있는 이종접합 전계효과 트랜지스터에 관한 것으로,본 발명의 실시예에 따른 이종접합 전계효과 트랜지스터는,기판; 상기 기판 상에 형성된 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 형성되며, 2차원 전자채널을 포함하는 채널층; 상기 채널층 상에 형성되며, 상기 채널층과의 경계면에 상기 2차원 전자채널이 형성되도록 유도하는 장벽층; 상기 장벽층 상에 서로 이격되어 형성되는 소스 전극, 게이트 전극, 및 드레인 전극; 상기 장벽층 상에 형성되며, 상기 소스 전극과 상기 게이트 전극, 상기 게이트 전

대표청구항

기판;상기 기판 상에 형성된 버퍼층;상기 버퍼층 상에 형성되며, 2차원 전자채널을 포함하는 채널층;상기 채널층 상에 형성되며, 상기 채널층과의 경계면에 상기 2차원 전자채널이 형성되도록 유도하는 장벽층;상기 장벽층 상에 서로 이격되어 형성되는 소스 전극, 게이트 전극, 및 드레인 전극;상기 장벽층 상에 형성되며, 상기 소스 전극과 상기 게이트 전극, 상기 게이트 전극과 상기 드레인 전극 사이에 질화알루미늄(AlN)이 원자층 증착방식(ALD)으로 증착되어 형성된 ALD-AlN층을 포함하는 이종접합 전계효과 트랜지스터.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1) 인용/피인용 타임라인 분석

[일본] SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME | SAITO NAOFUMI, YUMOTO MIKI
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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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