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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0119095 (2020-09-16) | |
등록번호 | 10-2245162-0000 (2021-04-21) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020200100659 (2020-08-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200119095 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-09-16) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 레이저를 지면(地面)에 대해 수평하게 조사하여 전극 필름의 일측 변에 전극탭을 노칭 가공함으로써 노칭 가공 공정에서 발생하는 스크랩 및 이물질의 제거가 용이하며, 생산성을 향상시킬 수 있는 전극의 레이저 노칭 시스템에 관한 것으로, 본 발명에 따른 전극의 레이저 노칭 시스템은, 지면(地面)에 대해 연직한 방향으로 이송되는 전극 필름을 향해 지면(地面)에 대해 수평하게 레이저를 조사하여 전극 필름의 가장자리에 전극탭을 노칭 가공하는 레이저 조사기; 상기 전극 필름을 기준으로 레이저 조사기의 반대편에 설치되는 지그베이스; 상
지면(地面)에 대해 연직한 방향으로 이송되는 전극 필름(E)의 양측 가장자리를 향해 지면(地面)에 대해 수평하게 레이저를 조사하여 전극 필름(E)의 가장자리에 전극탭을 노칭 가공하는 2개의 레이저 조사기(100);상기 전극 필름(E)을 기준으로 레이저 조사기(100)의 반대편에 설치되는 지그베이스(200);상기 지그베이스(200)에 지면(地面)에 대해 연직한 회전축(215)을 중심으로 회전 가능하게 설치되며, 상기 2개의 레이저 조사기(100) 중 어느 한 레이저 조사기(100)에서 조사되는 레이저의 패턴과 대응하는 형태의 패턴공(
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