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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2020-0142808 (2020-10-30) | |
| 공개번호 | 10-2022-0057792 (2022-05-09) | |
| 등록번호 | 10-2491082-0000 (2023-01-17) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020200142808 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2020-10-30) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 전자빔을 대상물에 조사하여 대상물에 미세결함을 발생시키기 위한 전자빔 조사용 초전도체 거치 장치 및 거치 설비에 대한 발명으로, 본 발명의 일 측면에 따르면, 미세 결함의 형성을 위해 전자빔이 조사될 대상물이 거치될 수 있는 거치본체; 및 상기 거치본체를 냉각하기 위한 냉각부를 포함하고, 상기 냉각부는, 상기 거치본체의 내부에 배치되고, 냉각수가 흐르는 유로를 제공하는 경로부; 상기 거치본체의 일 측에 배치되고, 상기 경로부에 냉각수를 공급하는 입수부; 및 상기 거치본체의 타 측에 배치되며, 상기 경로부에서 배출되는 냉각
미세 결함의 형성을 위해 전자빔이 조사될 대상물이 거치될 수 있는 거치본체; 및상기 거치본체를 냉각하기 위한 냉각부를 포함하고,상기 냉각부는,상기 거치본체의 내부에 배치되고, 냉각수가 흐르는 유로를 제공하는 경로부;상기 거치본체의 일 측에 배치되고, 상기 경로부에 냉각수를 공급하는 입수부; 및상기 거치본체의 타 측에 배치되며, 상기 경로부에서 배출되는 냉각수를 외부로 배출하는 배수부를 포함하며,상기 거치본체에는, 상기 대상물이 각각 거치되는 복수 개의 설치홈이 형성되고,상기 경로부는 상기 복수 개의 설치홈 각각에 거치된 상기 대상물
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