초록 ▼

본 발명은 인듐 전구체 및 주석 전구체를 사용한 유연기판 위 인듐-주석 산화물의 코팅방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폴리이미드 필름 등의 유연기재 표면에 인듐-주석 수용액을 도포하여 ITO 박막을 형성함으로써, 제조방법이 간단하고 친환경적인 동시에 ITO 박막의 코팅성, 증착효율 및 전기전도도를 향상시킬 수 있는 ITO(Indium tin oxide: 인듐 주석 산화물) 박막의 제조방법에 관한 것이다. 특히, 수용액 자체의 높은 표면장력으로 인한 코팅성 저하 문제를 해결하기 위해, 기판 표면을 광산화 처리를 선행하고, 수용액

본 발명은 인듐 전구체 및 주석 전구체를 사용한 유연기판 위 인듐-주석 산화물의 코팅방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 폴리이미드 필름 등의 유연기재 표면에 인듐-주석 수용액을 도포하여 ITO 박막을 형성함으로써, 제조방법이 간단하고 친환경적인 동시에 ITO 박막의 코팅성, 증착효율 및 전기전도도를 향상시킬 수 있는 ITO(Indium tin oxide: 인듐 주석 산화물) 박막의 제조방법에 관한 것이다. 특히, 수용액 자체의 높은 표면장력으로 인한 코팅성 저하 문제를 해결하기 위해, 기판 표면을 광산화 처리를 선행하고, 수용액의 낮은 점도와 해당 전구체의 수용액에 대한 낮은 용해도에 의한 얇은 박막 두께의 한계점을 다층 코팅을 통해 개선하는 방법을 포함하고 있다. 또한 특정 인듐 함유 화합물과 주석 함유 화합물을 사용함으로써, 박막 제조 시 형성되는 음이온의 제거효율을 높여 제조된 박막의 코팅성 및 전기전도도를 향상시킬 수 있다.

대표청구항 ▼

(a) 기재를 세척하는 단계;(b) 인듐 함유 화합물을 포함하는 수용액을 제조하는 단계;(c) 주석 함유 화합물을 포함하는 수용액을 제조하는 단계;(d) 상기 인듐 함유 화합물을 포함하는 수용액 및 주석 함유 화합물을 포함하는 수용액을 혼합하여 혼합용액을 제조하는 단계; (e) 상기 세척된 기재의 표면을 광산화 처리하는 단계;(f) 상기 광산화 처리된 기재의 표면에 상기 혼합용액을 코팅하는 단계; (g) 상기 코팅된 기재를 열처리한 후 냉각하는 단계;(h) 상기 (f) 단계 및 (g) 단계를 3~8회 반복하는 단계; 및(i) 상기

(a) 기재를 세척하는 단계;(b) 인듐 함유 화합물을 포함하는 수용액을 제조하는 단계;(c) 주석 함유 화합물을 포함하는 수용액을 제조하는 단계;(d) 상기 인듐 함유 화합물을 포함하는 수용액 및 주석 함유 화합물을 포함하는 수용액을 혼합하여 혼합용액을 제조하는 단계; (e) 상기 세척된 기재의 표면을 광산화 처리하는 단계;(f) 상기 광산화 처리된 기재의 표면에 상기 혼합용액을 코팅하는 단계; (g) 상기 코팅된 기재를 열처리한 후 냉각하는 단계;(h) 상기 (f) 단계 및 (g) 단계를 3~8회 반복하는 단계; 및(i) 상기 냉각된 기재를 열처리하는 단계;를 포함하는 ITO 박막의 제조방법에 있어서, 상기 (e) 단계는 2~30분 동안 자외선 조사하여 광산화 처리하고, 상기 (e) 단계 및 (f) 단계 사이에, 상기 광산화 처리된 기재의 표면을, 아크릴레이트기 함유 실란 커플링제 및 아크릴산 모노머의 공중합체로 처리하는 단계를 포함하고, 상기 아크릴레이트기 함유 실란 커플링제 및 아크릴산 모노머의 중량비는 10~30:70~90 이며, 상기 (g) 단계는 100~300℃에서 열처리하며, 상기 (i) 단계는 150~450℃에서 열처리하는 것을 특징으로 하는 ITO 박막의 제조방법.