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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0150854 (2020-11-12) | |
공개번호 | 10-2022-0020181 (2022-02-18) | |
등록번호 | 10-2529637-0000 (2023-05-02) | |
우선권정보 | 미국(US) 16/990,647 (2020-08-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200150854 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-11-12) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
방법은, 반도체 기판에 이미지 센서를 형성하는 것, 반도체 기판의 후면으로부터 반도체 기판을 박형화하는 것, 반도체 기판의 후면 상에 유전체 층을 형성하는 것, 및 반도체 기판의 후면 상에 폴리머 그리드를 형성하는 것을 포함한다. 폴리머 그리드는 제1 굴절률 값을 갖는다. 방법은, 폴리머 그리드에 컬러 필터 - 컬러 필터는 제1 굴절률 값보다 더 높은 제2 굴절률 값을 가짐 - 를 형성하는 것, 및 컬러 필터 상에 마이크로 렌즈를 형성하는 것을 더 포함한다.
방법으로서,반도체 기판에 이미지 센서를 형성하는 단계;상기 반도체 기판의 후면(backside)으로부터 상기 반도체 기판을 박형화하는 단계;상기 반도체 기판의 상기 후면 상에 유전체 층을 형성하는 단계;상기 반도체 기판의 상기 후면 상에 폴리머 그리드를 형성하는 단계 - 상기 폴리머 그리드는 제1 굴절률 값을 가지고, 상기 폴리머 그리드를 형성하는 단계는,감광성 재료를 도포하는 단계;리소그래피 마스크를 사용하여 상기 감광성 재료를 노광하는 단계; 및상기 감광성 재료의 일부의 부분을 제거하기 위하여 상기 감광성 재료에 대해 현상 프로
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