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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0151149 (2020-11-12) | |
공개번호 | 10-2022-0064735 (2022-05-19) | |
등록번호 | 10-2475560-0000 (2022-12-05) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200151149 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-11-12) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
다양한 실시예들은 초격자 광검출기 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 초격자 광검출기는 입사되는 광을 흡수하기 위한 흡수층, 및 흡수층에 결합되어, 입사되는 광이 흡수층 내에서 도파되도록 하는 도파층을 포함하고, 도파층은 복수의 금속 패턴들과 복수의 유전체 패턴들이 반복으로 배열되는 주기 구조를 포함할 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 초격자 광검출기는 향상된 성능을 가지면서도, 박막화될 수 있다.
초격자 광검출기에 있어서, 상기 초격자 광검출기는,입사되는 광을 흡수하기 위한 흡수층; 및상기 흡수층에 결합되어, 상기 입사되는 광이 상기 흡수층 내에서 도파되도록 하는 도파층을 포함하고, 상기 도파층은,복수의 금속 패턴들과 복수의 유전체 패턴들이 반복으로 배열되는 주기 구조를 포함하고,상기 초격자 광검출기는,상기 도파층을 사이에 두고, 상기 흡수층의 맞은 편에 배치되는 회로층; 및상기 회로층과 상기 도파층 사이에 배치되는 커패시터층을 더 포함하는, 초격자 광검출기.
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