초록 ▼

하드 마스크를 사용하여 자가 정렬 정밀도를 개선한 광 검출 소자 및 그 제조 방법을 제공한다.광 검출 소자의 제조 방법은, i) 기판을 제공하는 단계, ii) 기판 위에 광반사 거울부를 제공하는 단계, iii) 광반사 거울부 위에 광 검출부를 제공하는 단계, iv) 광반사 거울부 위에 제공되어 광 검출부를 덮는 반사 방지부를 제공하는 단계, v) 광반사 거울부의 제1 외주부 및 반사 방지부의 제2 외주부를 각각 제거하는 단계, 및 vi) 제거된 제1 외주부에 대응 형성되어 기판 위에 위치하고, 광반사 거울부와 이격되어 광반사 거울부

하드 마스크를 사용하여 자가 정렬 정밀도를 개선한 광 검출 소자 및 그 제조 방법을 제공한다.광 검출 소자의 제조 방법은, i) 기판을 제공하는 단계, ii) 기판 위에 광반사 거울부를 제공하는 단계, iii) 광반사 거울부 위에 광 검출부를 제공하는 단계, iv) 광반사 거울부 위에 제공되어 광 검출부를 덮는 반사 방지부를 제공하는 단계, v) 광반사 거울부의 제1 외주부 및 반사 방지부의 제2 외주부를 각각 제거하는 단계, 및 vi) 제거된 제1 외주부에 대응 형성되어 기판 위에 위치하고, 광반사 거울부와 이격되어 광반사 거울부를 둘러싸는 하드 마스크를 제공하는 단계를 포함한다.

대표청구항

기판을 제공하는 단계,상기 기판 위에 광반사 거울부를 제공하는 단계,상기 광반사 거울부 위에 광 검출부를 제공하는 단계,상기 광반사 거울부 위에 제공되어 상기 광 검출부를 덮는 반사 방지부를 제공하는 단계,상기 광반사 거울부의 제1 외주부 및 상기 반사 방지부의 제2 외주부를 각각 제거하는 단계, 및상기 광반사 거울부를 둘러싸면서 상기 기판 위에 위치하고, 그 측면이 상기 광반사 거울부의 측면과 상기 기판 위에서 상호 이격된 하드 마스크를 제공하는 단계를 포함하는 광 검출 소자의 제조 방법.

기판을 제공하는 단계,상기 기판 위에 광반사 거울부를 제공하는 단계,상기 광반사 거울부 위에 광 검출부를 제공하는 단계,상기 광반사 거울부 위에 제공되어 상기 광 검출부를 덮는 반사 방지부를 제공하는 단계,상기 광반사 거울부의 제1 외주부 및 상기 반사 방지부의 제2 외주부를 각각 제거하는 단계, 및상기 광반사 거울부를 둘러싸면서 상기 기판 위에 위치하고, 그 측면이 상기 광반사 거울부의 측면과 상기 기판 위에서 상호 이격된 하드 마스크를 제공하는 단계를 포함하는 광 검출 소자의 제조 방법.