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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-0170227 (2020-12-08) | |
공개번호 | 10-2022-0080934 (2022-06-15) | |
등록번호 | 10-2610445-0000 (2023-12-01) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020200170227 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-06-04) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
플라즈마의 균일성을 극대화시킬 수 있는 기판 처리 장치 및 방법이 제공된다. 상기 기판 처리 장치는 기판을 처리하기 위한 처리 공간과, 상기 기판을 처리하기 위한 플라즈마를 생성하는 플라즈마 생성 모듈을 포함하고, 상기 플라즈마 생성 모듈은 제1 방향으로 서로 나란하게 배치된 다수의 제1 전극과, 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 서로 나란하게 배치된 다수의 제2 전극과, 상기 다수의 제1 전극과 상기 다수의 제2 전극과 연결된 다수의 마이크로 플라즈마 셀을 포함하는 어레이를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하고, 상기 다수의 마
기판이 배치되는 처리 공간; 및상기 기판을 처리하기 위한 플라즈마를 생성하는, 플라즈마 생성 모듈을 포함하되,상기 플라즈마 생성 모듈은,제1 방향으로, 서로 나란하게 배치된 다수의 제1 전극과,상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로, 서로 나란하게 배치된 다수의 제2 전극과,다수의 마이크로 플라즈마 셀을 포함하는 어레이로서, 각 마이크로 플라즈마 셀은 대응되는 제1 전극 및 제2 전극에 연결되고 상기 대응되는 제1 전극에 인가되는 제1 전압 및 상기 대응되는 제2 전극에 인가되는 제2 전압에 따라 플라즈마를 생성하는 어레이를 포함하는
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