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[한국특허] 멤스 패키지 및 그 제조방법
MEMS package and methods of manufacturing the same
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B81B-007/00
  • B81C-001/00
출원번호 10-2020-0173674 (2020-12-11)
공개번호 10-2021-0075891 (2021-06-23)
등록번호 10-2432233-0000 (2022-08-09)
우선권정보 대한민국(KR) 1020190167020 (2019-12-13)
DOI http://doi.org/10.8080/1020200173674
발명자 / 주소
  • 부림 엘 무스타파 / 서울특별시 강북구 삼양로***길 **-*, ***호
  • 김희연 / 세종특별자치시 새롬남로 **, ***동 ***호
  • 강일석 / 대전광역시 서구 월평중로 **, ***동 ***호
  • 심갑섭 / 서울특별시 창전로*길 **, ***동 ****호
  • 양충모 / 대전광역시 유성구 배울*로 **, ***동 ****호
출원인 / 주소
  • 한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소
  • 이인행; 김한; 김남식
심사청구여부 있음 (2020-12-11)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명의 일 실시예에 의한 멤스 패키지의 제조방법은 실리콘 기판을 제공하는 단계; 상기 실리콘 기판 상에 산소원소 및 제1물질을 함유하는 개재층을 형성하는 단계; 상기 개재층 상에 제2물질로 이루어진 층과 제3물질로 이루어진 층이 교번하여 적층된 반응성 적층 구조체를 형성하는 단계; 상기 반응성 적층 구조체 상에 본딩층을 개재하여 캡핑층을 배치하는 단계; 상기 반응성 적층 구조체의 국소 부위에 개시자극을 인가하여 제2물질로 이루어진 층과 제3물질로 이루어진 층의 상호반응으로 인하여 열을 발생시키는 단계;를 포함하되, 상기 제2물질

대표청구항

실리콘 기판;상기 실리콘 기판 상에 배치되되, 산소원소 및 제1물질을 함유하는 개재층;상기 개재층 상에 배치되되, 제2물질로 이루어진 층과 제3물질로 이루어진 층이 교번하여 적층된, 반응성 적층 구조체;상기 반응성 적층 구조체 상에 배치된 캡핑층; 및상기 반응성 적층 구조체와 상기 캡핑층 사이에 개재된 본딩층;을 포함하되,상기 제2물질과 상기 제3물질은 서로 상이하며, 상기 제1물질과 산소원소의 친화도는 실리콘과 산소원소의 친화도 보다 상대적으로 더 낮으며,상기 개재층에서 산소원소의 함량 비율은 상기 제1물질의 화학양론적 산화물에서

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