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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2020-7008565 (2020-03-24) | |
공개번호 | 10-2020-0037420 (2020-04-08) | |
등록번호 | 10-2142386-0000 (2020-08-03) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2017-166422 (2017-08-31) | |
국제출원번호 | PCT/JP2018/032023 (2018-08-29) | |
국제공개번호 | WO 2019/044929 (2019-03-07) | |
번역문제출일자 | 2020-03-24 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020207008565 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2020-03-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 표면 처리 졸겔 실리카는 레이저 회절 산란법에 따른 평균 입자 직경이 0.05㎛ 이상 2.0㎛ 이하인 졸겔 실리카와, 상기 졸겔 실리카 표면에 표면 처리제를 구비하고, 에탄올 중에 5질량%의 양을 출력 40W, 조사 시간 10분이라는 조건에 의해 초음파로 분산시킨 분산액에서, 쿨터 카운터법으로 얻어진 입도 분포에서는, 입자 직경이 5㎛ 이상인 입자의 함유량이 개수 기준으로 10ppm 이하인 것을 특징으로 한다.
졸겔 실리카 입자의 표면을 표면 처리제로 개질하고 있고, 레이저 회절 산란법에 따른 평균 입자 직경이 0.05㎛ 이상 2.0㎛ 이하이며, 에탄올 중에 5질량%의 양을 출력 40W, 조사 시간 10분이라는 조건에 의해 초음파로 분산시킨 분산액에서, 쿨터 카운터법으로 얻어진 입도 분포에서는, 입자 직경이 5㎛ 이상인 입자의 함유량이 개수 기준으로 10ppm 이하이며,700℃에서 5시간 가열하였을 때의 가열 감량이 5% 이하인 것을 특징으로 하는 표면 처리 졸겔 실리카.
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