[특허]스트레인드 채널 성장 구조, 및 그를 이용한 스트레인드 채널 및 소자 제조 방법

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[한국특허] 스트레인드 채널 성장 구조, 및 그를 이용한 스트레인드 채널 및 소자 제조 방법
GROWTH STRUCTURE FOR STRAINED CHANNEL, AND METHODS FOR MANUFACTURING STRAINED CHANNEL AND DEVICE USING THE SAME 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-029/10 H01L-029/78
출원번호	10-2021-0000429 (2021-01-04)
공개번호	10-2022-0098580 (2022-07-12)
등록번호	10-2446604-0000 (2022-09-20)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020210000429
발명자 / 주소	김상현 / 대전광역시 유성구 대학로 * (구성동, 한국과학기술원) 임형락 / 대전광역시 유성구 대학로 * (구성동, 한국과학기술원)
출원인 / 주소	한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소	양성보
심사청구여부	있음 (2021-01-04)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

다양한 실시예들은 스트레인드 채널 성장 구조, 및 그를 이용한 스트레인드 채널 및 소자 제조 방법에 관한 것으로, 스트레인드 채널 성장 구조는 지지 기판, 지지 기판 상에 배치되는 스트레인-완화층, 스트레인-완화층 상에 일 조성을 갖도록 성장되는 베이스 성장층, 및 베이스 성장층 상에 다른 조성을 갖도록 성장되는 스트레인드 채널층을 포함하고, 스트레인드 채널층은, 인장-스트레인드 채널층 또는 압축-스트레인드 채널층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

대표청구항

스트레인드 채널 성장 구조에 있어서, 지지 기판; 상기 지지 기판 상에 배치되는 스트레인-완화층; 상기 스트레인-완화층 상에 일 조성을 갖도록 성장되는 베이스 성장층; 및상기 베이스 성장층 상에 다른 조성을 갖도록 성장되는 스트레인드 채널층을 포함하고,상기 스트레인드 채널층은, 인장-스트레인드 채널층 또는 압축-스트레인드 채널층 중 적어도 하나를 포함하고,상기 스트레인드 채널층은,상기 베이스 성장층과 상기 압축-스트레인드 채널층 사이에 개재되는 식각-스탑층을 더 포함하는, 성장 구조.

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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