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연합인증

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음극재용 실리콘 탄소 코팅 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01M-004/36
  • C23C-016/26
  • C23C-016/44
  • H01M-004/38
  • H01M-004/62
출원번호 10-2021-0007774 (2021-01-20)
공개번호 10-2022-0105277 (2022-07-27)
등록번호 10-2627250-0000 (2024-01-16)
DOI http://doi.org/10.8080/1020210007774
발명자 / 주소
  • 양형우 / 서울특별시 동작구 여의대방로**길 ** 대림아파트 ***동 ***호
  • 조성원 / 경기도 수원시 영통구 봉영로****번길 **, ***동 ****호
  • 김영재 / 경기도 수원시 영통구 매봉로 ** e-편한세상아파트 ***동 ****호
출원인 / 주소
  • (주) 싸이엔텍 / 경기도 수원시 영통구 신원로 *** ,*동***호(원천동,영통이노플렉스-*단지)
대리인 / 주소
  • 김종수
심사청구여부 있음 (2021-01-20)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명은 음극재용 실리콘 탄소 코팅 장치에 관한 것으로, 실리콘 분말이 저장되는 저장탱크; 제1 내부공간이 형성되어 있으며, 상기 저장탱크와 연결되어 상기 저장탱크로부터 상기 실리콘 분말이 공급되고, 상기 실리콘 분말에 코팅되는 탄소의 원천인 가스가 공급되는 제1 챔버유닛; 상기 실리콘 분말과 상기 가스가 이동할 수 있는 통로를 형성하고 있어 일측이 상기 제1 챔버유닛에 연결되고, 상기 실리콘 분말이 이동하는 동안 열을 가하여 상기 가스를 반응시켜 상기 탄소로 변화시키고 상기 실리콘 분말에 탄소를 코팅하는 실리콘 코팅 유닛; 제2

대표청구항

실리콘 분말이 저장되는 저장탱크;상기 저장탱크와 연결되어 상기 저장탱크로부터 상기 실리콘 분말이 공급되고, 상기 실리콘 분말에 코팅되는 탄소의 원천인 가스가 공급되는 제1 챔버유닛;상기 실리콘 분말과 상기 가스가 이동할 수 있는 통로를 형성하고 있어 일측이 상기 제1 챔버유닛에 연결되고, 상기 실리콘 분말이 이동하는 동안 열을 가하여 상기 가스를 반응시켜 상기 탄소로 변화시키고 상기 실리콘 분말에 탄소를 코팅하는 실리콘 코팅 유닛; 및일측은 상기 제1 챔버유닛 내부에 결합되고 타측은 상기 제2 챔버유닛에 결합되며, 상기 제1 챔버유

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 세라믹 분말 제조방법 및 그 장치 | 장세주, 김종철
  2. [한국] CVD챔버 내의 과도한 알루미늄 축적을 최소화하기 위한 방법 및 장치 | 리타우, 칼, 죠우, 대선 에스., 맥, 알프레드, 쳰,링
  3. [일본] ROTARY TYPE THERMAL CVD FURNACE | NIIMI TOMOHIRO, NAKANISHI MASATAKA, GODA NOBUHIRO, MURASE MASAKAZU
  4. [일본] HEATING FURNACE | NIIMI TOMOHIRO, MURASE MASAKAZU, GODA NOBUHIRO, KURATA SHINGO, ABE KAZUHIKO
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