초록 ▼

본 발명은 플라즈마 처리 장치를 이용한 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 측정하기 위한 것으로, 공정 챔버와, 상기 공정 챔버의 일측에 형성되며 코팅부품이 탑재되는 코팅부품 홀더와, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리를 위해 플라즈마를 생성시키는 플라즈마 발생부를 포함하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 공정 챔버 하측부에 형성되며, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리 공정 영역 하측부에 형성되는 배기부를 포함하며, 상기 공정 챔버 일측에 형성되며, 상기 공정 챔버 내부에 레이저광을 조사하여 광산란에 의한 오염입자를 측정하는 제1

본 발명은 플라즈마 처리 장치를 이용한 플라즈마 처리 공정 중 발생하는 오염입자를 측정하기 위한 것으로, 공정 챔버와, 상기 공정 챔버의 일측에 형성되며 코팅부품이 탑재되는 코팅부품 홀더와, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리를 위해 플라즈마를 생성시키는 플라즈마 발생부를 포함하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 공정 챔버 하측부에 형성되며, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리 공정 영역 하측부에 형성되는 배기부를 포함하며, 상기 공정 챔버 일측에 형성되며, 상기 공정 챔버 내부에 레이저광을 조사하여 광산란에 의한 오염입자를 측정하는 제1 오염입자 측정부와, 상기 공정 챔버 타측에 형성되며, 상기 공정 영역의 플라즈마 상태를 진단하는 플라즈마 진단부와, 상기 배기부에 형성되며, 상기 배기부를 통과하는 오염입자에 레이저광을 조사하여 광산란에 의한 오염입자를 실시간으로 측정하는 제2 오염입자 측정부를 포함하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치를 기술적 요지로 한다. 이에 의해 공정 챔버 내부 및 배기부에서의 오염입자의 측정이 가능하며, 공정 챔버 내부에서의 플라즈마 상태의 진단이 가능하여 오염입자에 대한 측정을 복합적이면서 실시간으로 수행할 수 있는 이점이 있다.

대표청구항 ▼

공정 챔버와, 상기 공정 챔버의 일측에 형성되며 코팅부품이 탑재되는 코팅부품 홀더와, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리를 위해 플라즈마를 생성시키는 플라즈마 발생부를 포함하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리 공정 영역에 대해 수직 방향으로 상기 공정 챔버 하측부에 형성되어, 상기 코팅부품 및 상기 코팅부품 홀더의 간섭이 없는 배기부를 포함하며,상기 공정 챔버 일측에 형성되고, 상기 공정 챔버 내부에 레이저광을 조사하여 광산란에 의한 오염입자를 측정하는 제1 오염입자 측정부;상기 공정 챔버 타측에 형성되고,

공정 챔버와, 상기 공정 챔버의 일측에 형성되며 코팅부품이 탑재되는 코팅부품 홀더와, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리를 위해 플라즈마를 생성시키는 플라즈마 발생부를 포함하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 코팅부품의 플라즈마 처리 공정 영역에 대해 수직 방향으로 상기 공정 챔버 하측부에 형성되어, 상기 코팅부품 및 상기 코팅부품 홀더의 간섭이 없는 배기부를 포함하며,상기 공정 챔버 일측에 형성되고, 상기 공정 챔버 내부에 레이저광을 조사하여 광산란에 의한 오염입자를 측정하는 제1 오염입자 측정부;상기 공정 챔버 타측에 형성되고, 상기 공정 영역의 플라즈마 상태를 진단하는 플라즈마 진단부;상기 배기부에 형성되며, 상기 배기부를 통과하는 오염입자에 레이저광을 조사하여 광산란에 의한 오염입자를 실시간으로 측정하는 제2 오염입자 측정부;를 포함하며,상기 제1 오염입자 측정부는,상기 공정 영역에 레이저를 조사하는 레이저모듈;상기 레이저모듈 전방에 위치하며 레이저광을 조절하는 레이저조절부;를 포함하고,상기 공정 챔버 일측에 형성된 윈도우를 통해 측정되며, 상기 제1 오염입자 측정부에서 측정된 오염입자의 광산란 이미지를 측정하는 이미지 센서가 더 구비되고,상기 공정 챔버는, 둘레를 따라 복수개의 가스 유입부가 형성되며,상기 가스 유입부는, 상기 배기부가 형성된 상기 공정 챔버 하측보다 가스가 주입되는 가스 주입부가 형성된 상기 공정 챔버 상측에 더 조밀하게 형성된 것을 특징으로 하는 오염입자의 실시간 복합 측정이 가능한 수직형 플라즈마 처리 장치.