초록

본 발명은 고체 전해질 제조방법 및 이에 따라 제조된 고체 전해질에 관한 것으로써, 본 발명에 따른 고체 전해질 제조방법은 혼합물의 액상 기반의 표면 개질기술이므로 슬러리 공정에 간단하게 적용할 수 있고, 상기 방법을 통해 고체 전해질은 황화물계 화합물 표면에 표면개질물질을 포함하는 표면개질층이 코팅되어 있으므로 대기안정성과 극성 용매에 대한 안정성 확보하면서도 전위 안정성을 확보할 수 있는 장점이 있다.

대표청구항 ▼

하기 화학식 1로 표시되는 황화물계 화합물, 표면개질 첨가제 및 용매를 포함하는 혼합물을 제조하는 단계; 및상기 혼합물을 증발시켜, 건조된 혼합물을 수득하는 단계;를 포함하고,상기 황화물계 화합물의 용출물질과 표면개질 첨가제가 반응한 표면개질물질이 황화물계 화합물의 표면에 생성되어 표면개질층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고체 전해질 제조 방법.[화학식 1]LaMbScXd(상기 화학식 1에서, L은 알칼리 금속이고,M은 P, Ge, Si, As, Sb, Sn, Mg, Ba, B, Al, Ga, In, Pb, N, Bi, Ti, V,

하기 화학식 1로 표시되는 황화물계 화합물, 표면개질 첨가제 및 용매를 포함하는 혼합물을 제조하는 단계; 및상기 혼합물을 증발시켜, 건조된 혼합물을 수득하는 단계;를 포함하고,상기 황화물계 화합물의 용출물질과 표면개질 첨가제가 반응한 표면개질물질이 황화물계 화합물의 표면에 생성되어 표면개질층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고체 전해질 제조 방법.[화학식 1]LaMbScXd(상기 화학식 1에서, L은 알칼리 금속이고,M은 P, Ge, Si, As, Sb, Sn, Mg, Ba, B, Al, Ga, In, Pb, N, Bi, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Hf, Ta, W, 및 La로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 원소이고, X은 F, Cl, Br, I, Se, Te, 및 O로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 원소이고, 및0<a≤10이고, 0<b≤10이고, 0<c≤10이고, 0≤d≤10임)