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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0024479 (2021-02-24) | |
등록번호 | 10-2396432-0000 (2022-05-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210024479 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-02-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
반도체 장치에서 발생하는 아크를 검출하는 방법이 개시된다. 상기 방법은, 상기 반도체 장치에서 기판을 처리하기 위한 공정 처리를 수행하고, 그에 따른 데이터를 수집하는 단계; 상기 수집한 데이터를 구간별로 분리하는 단계; 상기 구간별로 분리한 데이터의 평균값과 표준편차를 구하는 단계; 및 상기 평균값 및 상기 표준편차를 이용하여 상기 아크를 검출하기 위한 상한선 및 하한선을 설정하는 단계;를 포함할 수 있다.
반도체 장치에서 발생하는 아크를 검출하는 방법에 있어서, 상기 반도체 장치에서 기판을 처리하기 위한 공정 처리를 수행하고, 그에 따른 데이터를 수집하는 단계; 상기 수집한 데이터를 구간별로 분리하는 단계; 상기 구간별로 분리한 데이터의 평균값과 표준편차를 구하는 단계; 및상기 평균값 및 상기 표준편차를 이용하여 상기 아크를 검출하기 위한 상한선 및 하한선을 설정하는 단계;를 포함하고,상기 수집한 데이터를 구간별로 분리하는 단계; 는, 공정 시작 직후의 데이터 및 공정 종료 직전의 데이터는 제외하고 분리하는 아크 검출 방법.
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