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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0045876 (2021-04-08) | |
공개번호 | 10-2022-0139651 (2022-10-17) | |
등록번호 | 10-2493295-0000 (2023-01-25) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210045876 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-04-08) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 탄산리튬 제조방법에 관한 것으로, 일 실시예에 따르면, 저급의 탄산리튬을 산성 용액에 첨가하여 슬러리를 제조하는 단계; 고액분리에 의해 불순물을 제거하는 단계; 및 탄산나트륨 용액과 반응시켜 탄산리튬을 재결정하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄산리튬 제조방법을 개시한다.
탄산리튬 제조방법으로서, 저급의 탄산리튬을 산성 용액에 첨가하여 슬러리를 제조하는 단계(S10); 상기 슬러리에 산성 용액을 적하하여 pH5가 되도록 조절하는 단계(S20); 고액분리에 의해 고상의 불순물을 제거하고 탄산리튬 용액을 얻는 단계(S30); 상기 탄산리튬 용액을 탄산나트륨 용액과 반응시켜 탄산리튬을 재결정하는 단계(S40); 및 재결정된 탄산리튬을 수세하여 침전된 나트륨을 제거하는 단계(S60);를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄산리튬 제조방법.
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