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연합인증

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[한국특허] 삼중 구조를 갖는 셀 및 이를 포함하는 소자
TRIPLE STRUCTURE CELL AND ELEMENT INCLUDING THE SAME
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H10N-097/00
  • H01L-021/02
출원번호 10-2021-0049085 (2021-04-15)
공개번호 10-2022-0142711 (2022-10-24)
등록번호 10-2701561-0000 (2024-08-28)
DOI http://doi.org/10.8080/1020210049085
발명자 / 주소
  • 전상훈 / 대전광역시 유성구 대학로 *** (구성동, 한국과학기술원)
출원인 / 주소
  • 한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소
  • 양성보
심사청구여부 있음 (2021-04-15)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

삼중 구조를 갖는 셀 및 이를 포함하는 소자가 개시된다.일 실시예에 따르면, 삼중 구조의 강유전성 셀은, 분극 물질층(Polarizable material layer); 상기 분극 물질층의 상부에 배치되는 상부 유전체층; 및 상기 분극 물질층의 하부에 배치되는 하부 유전체층을 포함할 수 있다.

대표청구항

상부 전극 및 하부 전극 사이에 개재되는 삼중 구조를 갖는 셀에 있어서, 분극 물질층(Polarizable material layer); 상기 분극 물질층의 상부에 배치되는 상부 유전체층; 및 상기 분극 물질층의 하부에 배치되는 하부 유전체층을 포함하고, 상기 상부 유전체층은, 상기 분극 물질층에 장력을 유발하여 상기 분극 물질층의 사방정 상(Orthorhombic phase; o-phase)을 개선하는 역할을 하도록 상기 분극 물질층보다 높은 열팽창 계수를 갖는 것을 특징으로 하며, 상기 하부 유전체층은, 상기 분극 물질층과 경계

이 특허에 인용된 특허 (1) 인용/피인용 타임라인 분석

  1. [한국] 반도체소자의 유전체막 및 그 형성방법 | 장효식

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