[특허]채널 폭을 증가시킨 구조의 트랜지스터 및 그 제조 방법

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[한국특허] 채널 폭을 증가시킨 구조의 트랜지스터 및 그 제조 방법
TRANSISTOR WITH INCREASED CHANNEL WIDTH AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-029/786 H01L-029/06 H01L-029/08 H01L-029/423 H01L-029/66
출원번호	10-2021-0056170 (2021-04-30)
공개번호	10-2022-0149040 (2022-11-08)
등록번호	10-2496323-0000 (2023-02-01)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020210056170
발명자 / 주소	전상훈 / 대전광역시 유성구 대학로 *** (구성동, 한국과학기술원)
출원인 / 주소	한국과학기술원 / 대전광역시 유성구 대학로 ***(구성동)
대리인 / 주소	양성보
심사청구여부	있음 (2021-04-30)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

채널 폭을 증가시킨 구조의 트랜지스터 및 그 제조 방법이 개시된다.일 실시예에 따르면, 트랜지스터는, 기판 상에 수직 방향으로 연장 형성된 채 수평 방향으로 돌출된 적어도 하나의 돌출부 및 만입된 적어도 하나의 만입부를 포함하는 채널; 상기 채널의 일부분을 감싸도록 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 게이트; 및 상기 게이트의 양측에 대향되며 배치된 채 상기 채널의 일부분을 감싸도록 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 소스 및 드레인을 포함할 수 있다.

대표청구항

기판 상에 수직 방향으로 연장 형성된 채 수평 방향으로 돌출된 적어도 하나의 돌출부 및 만입된 적어도 하나의 만입부를 포함하는 채널; 상기 채널의 일부분을 감싸도록 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 게이트; 및 상기 게이트의 양측에 대향되며 배치된 채 상기 채널의 일부분을 감싸도록 상기 수직 방향으로 연장 형성되는 소스 및 드레인을 포함하고, 상기 채널은, 상기 기판의 바디와 연결되며 상기 수직 방향으로 연장 형성됨으로써 부유 바디 효과에 기인한 문턱 전압의 변화를 제어 가능한 것을 특징으로 하는 트랜지스터.

이 특허에 인용된 특허 (1) 인용/피인용 타임라인 분석

[한국] 에피택셜 피처 | 추 펭-칭, 웬 충-치, 린 치아-핀
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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