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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0067610 (2021-05-26) | |
공개번호 | 10-2022-0159688 (2022-12-05) | |
등록번호 | 10-2500960-0000 (2023-02-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210067610 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-05-26) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 미립자 측정 방법 및 상기 측정 방법을 이용한 미립자 측정 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 미립자 측정 방법은 파장 폭이 넓은 파장을 가지는 하나의 초단 펄스 레이저 광을 입자에 대해 조사하는 단계; 상기 입자로부터 산란된 산란광을 복수의 대역 통과 필터(Band Pass Filter, BPF)를 포함하는 BPF 세트 내의 각 BPF를 통과시켜 대응되는 주파수 대역의 산란광만 통과시키는 단계; 및 통과된 각 산란광을 하나의 광검출기에 의해 검출하여 산란광 데이터를 획득하는 단계;를 포함할 수 있다.
BPF 필터 개수와 주파수 간격에 따라 결정된 파장 폭 보다 파장 폭이 넓은 파장을 가지는 초단 펄스 레이저 광을 입자에 대해 조사하는 단계; 상기 입자로부터 산란된 산란광을 복수의 대역 통과 필터(Band Pass Filter, BPF)를 포함하는 BPF 세트 내의 각 BPF를 통과시켜 대응되는 주파수 대역의 산란광만 통과시키는 단계; 및통과된 각 산란광을 하나의 광검출기에 의해 검출하여 적어도 하나의 입자에 대해 각 주파수 대역의 파장 별로 산란된 복수의 산란광 데이터를 획득하는 단계;를 포함하는,미립자 측정 방법.
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