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[한국특허] 드론 착륙장 및 그 착륙장에의 착륙 방법
DRONE LANDING FIELD AND LANDING METHOD IN THE LANDING FIELD
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IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • B64D-045/08
  • B64C-039/02
출원번호 10-2021-0069679 (2021-05-31)
공개번호 10-2022-0161671 (2022-12-07)
등록번호 10-2525850-0000 (2023-04-21)
DOI http://doi.org/10.8080/1020210069679
발명자 / 주소
  • 정철 / 경기도 성남시 수정구 창업로 **, 경기기업성장센터 ***호
  • 김지훈 / 경기도 성남시 수정구 창업로 **, 경기기업성장센터 ***호
  • 김형준 / 경기도 성남시 수정구 창업로 **, 경기기업성장센터 ***호
출원인 / 주소
  • 주식회사 베이리스 / 경기도 성남시 수정구 창업로 **, ***호, ***호, ***호, ***호 (시흥동, 판교제*테크노밸리경기기업성장센터)
대리인 / 주소
  • 조경미
심사청구여부 있음 (2021-05-31)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

드론 착륙장에의 드론 착륙 방법에 있어서, (a-1) 카메라에 의해 획득된 상기 드론 착륙장의 이미지 중 제 1 표식 그룹 내지 제 N 표식 그룹 중 적어도 하나의 그룹의 표식을 검출하되, 해당 표식 그룹 각각에 대해 M개 이상의 표식을 검출하는 단계; 및 (b-1) 상기 (a-1) 단계에서 적어도 하나의 표식 그룹 각각에 대해 검출된 M개 이상의 표식을 이용하여, 상기 드론 착륙장의 착륙 위치의 중심점을 산출하는 단계;를 포함하되, 상기 N 및 상기 M은, 2 이상의 자연수이고, 상기 제 1 표식 그룹 내지 상기 제 N 표식 그룹

대표청구항

삭제

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 표식을 구비한 드론 착륙장 및 그 착륙장에의 착륙 방법 | 신용원
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