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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0077938 (2021-06-16) | |
공개번호 | 10-2022-0168333 (2022-12-23) | |
등록번호 | 10-2601670-0000 (2023-11-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210077938 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-06-16) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 nm이하의 두께와 거칠기 특성을 측정할 수 있도록 압전-Z 스캐너의 변위를 최소화하기 위하여 경사조절이 가능한 AFM용 스테이지 및 그를 이용한 단차 측정방법에 관한 것으로, 본 발명의 압전-Z 스캐너의 변위를 최소화하는 틸트 스테이지를 채택한 원자간력 현미경은 종래 기술의 스테이지에서 10마이크로미터를 스캔할 때 높이 변화에 따른 각도가 평균 2.27도 이던 것을 0.15도까지 낮추어주므로, 단차 측정시 압전-Z 스캐너의 휨(bowing)으로 인한 왜곡이 사라지기 때문에 측정 정밀도를 개선하여 nm이하의 단차측정도 가능
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