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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0088837 (2021-07-07) | |
공개번호 | 10-2023-0008328 (2023-01-16) | |
등록번호 | 10-2504914-0000 (2023-03-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210088837 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-07-07) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 반응성 이온 식각법을 이용하여 나노입자의 형태 및 사이즈를 조절하기 위해 반응성 이온 식각장치에 사용되는 시료홀더용 지그 및 그를 이용한 나노입자 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 반응성 이온 식각장치 시료 홀더용 지그 및 그를 이용한 나노입자 제조방법은 반응성 이온식각 공정을 이용하여 기판상에 나노입자 제조 시, 기판에 대한 제한성이 없으며 지그에 기판 홀더를 장착하고 경사각 및 기판 회전각을 조절하여 나노입자의 형태, 사이즈 및 입자간 간격을 간단한 방법으로 필요에 따라 조절할 수 있다.
반응성 이온 식각장치 시료 홀더용 지그로, 상기 지그는:진행하는 이온빔의 방향과 경사를 이루는 경사면이 상기 이온빔 진행방향과 직각을 이루는 밑면의 상부에 형성된 본체부;상기 경사면의 중앙에 음각으로 형성되는 다각형의 중앙홈부; 및상기 중앙홈부의 테두리에 음각으로 형성되는 복수개의 패턴홈부를 포함하고,상기 복수개의 패턴홈부에는 시료홀더가 회전각을 바꾸면서 고정되는 시료홀더 끼움부가 형성되는,반응성 이온 식각장치 시료 홀더용 지그.
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