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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0090732 (2021-07-12) | |
공개번호 | 10-2023-0010323 (2023-01-19) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210090732 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-07-12) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 제품에 아연, 알루미늄 및 마그네슘 용융합금도금을 하기 전 플럭스 처리 과정에 사용되는 플럭스 조성물로서, 필수구성성분으로 염화암모늄(Ammonium Chloride), 염화아연(Zinc chloride) 및 염화주석(Tin chloride)으로 이루어진 플럭스 조성물에 대한 것이다. 융용합금도금 내 아연의 양에 따라 도금품질 향상을 위한 플럭스 조성물 내의 염화주석의 양이 달라지며, 염화아연 및 염화암모늄 양에도 영향을 받는다. 본원발명의 플럭스 조성물을 이용하여 제품을 플럭스 처리함으로써, 표면 결함이 없고 도금 특성
제품에 아연(Zinc, Zn), 알루미늄(Aluminium, Al) 및 마그네슘(Magnesium, Mg)의 용융합금도금을 하기 전 플럭스 처리 과정에 사용되는 플럭스 조성물로서, 염화암모늄(Ammonium Chloride), 염화아연(Zinc chloride) 및 염화주석(Tin chloride)의 필수구성성분; 계면활성제, 습윤제, pH 조절제 및 Fume 감소제로 이루어지는 그룹에서 선택되는 1종 이상의 보조성분; 및 용매로 이루어지는 것을 특징으로 하는, 플럭스 조성물.
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