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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0095356 (2021-07-21) | |
공개번호 | 10-2022-0012820 (2022-02-04) | |
등록번호 | 10-2532902-0000 (2023-05-11) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020200091448 (2020-07-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210095356 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-07-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 실시 예에 따른 표면 분석 방법은 나노 패턴이 형성된 기판 표면에 액정 분자를 포함하는 액정층을 도포하는 도포 단계; 편광현미경을 이용해 상기 기판을 스캐닝하는 스캐닝 단계; 및 상기 스캐닝 단계에서 관찰된 이미지를 분석하여, 상기 기판의 결함을 분석하는 분석 단계; 를 포함하는 표면 분석 방법을 개시한다.
나노 패턴이 형성된 기판 표면에 액정 분자를 포함하는 액정층을 도포하는 도포 단계;편광현미경을 이용해 상기 기판을 스캐닝하는 스캐닝 단계; 및상기 스캐닝 단계에서 관찰된 이미지를 분석하여, 상기 기판의 결함을 분석하는 분석 단계; 를 포함하고,상기 스캐닝 단계에서,상기 편광현미경은, 상기 기판으로 광을 조사하는 광원; 상기 기판을 투과한 광을 편광시키는 편광자; 상기 편광자에 의해 편광된 광을 관찰하는 현미경; 및 상기 현미경을 통해 관찰된 이미지를 출력하는 디스플레이를 포함하고,상기 스캐닝 단계는,상기 기판을 스캐닝하는 제1스캐닝
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