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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0095725 (2021-07-21) | |
등록번호 | 10-2405759-0000 (2022-05-31) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210095725 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-12-23) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
실리콘 산화물, 알칼리금속과 알칼리토금속 및 전이후금속 군에서 하나 이상 선택되는 도핑원소와 실리콘의 복합산화물, 또는 이들의 혼합물을 함유하는 매트릭스; 및 매트릭스에 분산 함입된 실리콘 나노입자;를 포함하며, 나노압입시험에 의한 강도(hardness)가 4.0 GPa 이상이며, 탄성계수(Young's modulus)가 40 GPa 이상이고, CuKα선을 이용한 X선 회절 패턴에서 회절각 2θ가 10°~27.4° 범위에 위치하는 제1피크의 면적(A1)과 28±0.5° 범위에 위치하는 제2피크의 면적(A2)간의 비(A1/A2)가 0
실리콘 산화물, 알칼리금속과 알칼리토금속 및 전이후금속 군에서 하나 이상 선택되는 도핑 원소와 실리콘의 복합산화물, 또는 이들의 혼합물을 함유하는 매트릭스; 및 상기 매트릭스에 분산 함입된 실리콘 나노입자;를 포함하며,나노압입시험에 의한 강도(hardness)가 4.0GPa 이상이며, 탄성계수(Young's modulus)가 40GPa 이상이고, CuKα선을 이용한 X선 회절 패턴에서 회절각 2θ가 10°~27.4° 범위에 위치하는 제1피크의 면적(A1)과 28±0.5° 범위에 위치하는 제2피크의 면적(A2)간의 비(A1/A2)가
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