초록 ▼

본 발명에 따른 본 발명에 따른 청소가 불필요한 플라즈마 이온 발생 장치는, 복수 개의 그릴을 구비한 상부 하우징과, 상기 상부 하우징에 결합되는 하부 하우징으로 이루어진 하우징; 상기 하부 하우징에 안착되는 것으로서 플라즈마 이온을 발생하는 이온 발생 모듈; 상기 이온 발생 모듈의 상면에 위치하여 상기 이온 발생 모듈에서 발생된 이온을 상기 그릴 방향으로 토출하는 팬 블로워;를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 본 발명에 따른 청소가 불필요한 플라즈마 이온 발생 장치에 의하면, 팬 블로워에 의하여 그릴이나 양극/음극 단

본 발명에 따른 본 발명에 따른 청소가 불필요한 플라즈마 이온 발생 장치는, 복수 개의 그릴을 구비한 상부 하우징과, 상기 상부 하우징에 결합되는 하부 하우징으로 이루어진 하우징; 상기 하부 하우징에 안착되는 것으로서 플라즈마 이온을 발생하는 이온 발생 모듈; 상기 이온 발생 모듈의 상면에 위치하여 상기 이온 발생 모듈에서 발생된 이온을 상기 그릴 방향으로 토출하는 팬 블로워;를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 본 발명에 따른 청소가 불필요한 플라즈마 이온 발생 장치에 의하면, 팬 블로워에 의하여 그릴이나 양극/음극 단자에 낀 이물질을 자동으로 청소하여 수작업에 의한 번거로운 청소가 필요하지 않음과 아울러 플라즈마 이온을 효율적으로 멀리 확산할 수 있는 장점을 제공한다.

대표청구항 ▼

청소가 불필요한 플라즈마 이온 발생 장치로서,복수 개의 그릴을 구비한 상부 하우징과, 상기 상부 하우징에 결합되는 하부 하우징으로 이루어진 하우징;상기 하부 하우징에 안착되는 것으로서 플라즈마 이온을 발생하는 이온 발생 모듈;상기 이온 발생 모듈의 상면에 위치하여 상기 이온 발생 모듈에서 발생된 이온을 상기 그릴 방향으로 토출하는 팬 블로워;상기 상부 하우징과 이온 발생기 사이에 포함된 흡착 시트;를 포함되되,상기 흡착 시트는, TEOS 30 내지 40 중량부, 에탄올 30 내지 40 중량부, 수산화암모늄 20 내지 30 중량부,

청소가 불필요한 플라즈마 이온 발생 장치로서,복수 개의 그릴을 구비한 상부 하우징과, 상기 상부 하우징에 결합되는 하부 하우징으로 이루어진 하우징;상기 하부 하우징에 안착되는 것으로서 플라즈마 이온을 발생하는 이온 발생 모듈;상기 이온 발생 모듈의 상면에 위치하여 상기 이온 발생 모듈에서 발생된 이온을 상기 그릴 방향으로 토출하는 팬 블로워;상기 상부 하우징과 이온 발생기 사이에 포함된 흡착 시트;를 포함되되,상기 흡착 시트는, TEOS 30 내지 40 중량부, 에탄올 30 내지 40 중량부, 수산화암모늄 20 내지 30 중량부, 물 5 내지 15 중량부를 40 내지 60℃에서 30 내지 60분 동안 혼합한 다음 2500 내지 3000rpm으로 5 내지 10분 동안 원심분리한 후 상등액을 제거하여 1차 물질을 제조하는 단계;상기 1차 물질 60 내지 70 중량부, 아세트산 30 내지 40 중량부를 40 내지 60℃에서 1 내지 2시간 동안 혼합한 다음 여과한 여과물을 수득하여 2차 물질을 제조하는 단계;상기 2차 물질 70 내지 80 중량부, MPTMS 20 내지 30 중량부를 40 내지 60℃에서 2 내지 4시간 동안 혼합하여 3차 물질을 제조하는 단계;상기 3차 물질 85 내지 99 중량부, BDK(Benzyldimethyl ketal) 1 내지 15 중량부를 5 내지 20분 동안 혼합한 다음 다공성 시트에 도포하는 단계;를 거쳐 제조되는 것을 특징으로 하는, 플라즈마 이온 발생 장치.