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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0097138 (2021-07-23) | |
공개번호 | 10-2023-0015694 (2023-01-31) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210097138 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 전지의 전극 탭과 전극리드를 용접하는 방법에 있어서,(1) 전극 탭 단부와 전극리드 단부를 중첩되게 적층시키는 단계; (2) 상기 적층부의 어느 일면에 레이저를 적용하여 용접을 수행하는 단계; 및 (3) 상기 용접과 함께 실시간으로 용접 상태를 모니터 하면서 키홀 형성용 레이저의 빔의 강도를 실시간으로 조절하는 단계:를 포함하며,상기 (2) 단계는 (a) 키홀 형성용 레이저 빔과 용접부 스캔용 레이저 빔을 동일한 축을 중심으로 중첩하여 조사하는 단계; 및 (b) 상기 용접부 스캔용 레이저 빔의 반사광을 검출하여 키홀의 3
전지의 전극 탭과 전극리드를 용접하는 방법에 있어서,(1) 전극 탭 단부와 전극리드 단부를 중첩되게 적층시키는 단계; (2) 상기 적층부의 어느 일면에 레이저를 적용하여 용접을 수행하는 단계; 및(3) 상기 용접과 함께 실시간으로 용접 상태를 모니터 하면서 키홀 형성용 레이저의 빔의 강도를 실시간으로 조절하는 단계:를 포함하며,상기 (2) 단계는 (a) 키홀 형성용 레이저 빔과 용접부 스캔용 레이저 빔을 동일한 축을 중심으로 중첩하여 조사하는 단계; 및(b) 상기 용접부 스캔용 레이저 빔의 반사광을 검출하여 키홀의 3D 영상을 형성
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