최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2021-0127573 (2021-09-27) | |
공개번호 | 10-2021-0119939 (2021-10-06) | |
등록번호 | 10-2416094-0000 (2022-06-29) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210127573 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2021-09-27) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
3차원 오가노이드를 2차원으로 배양하기 위한 배지 조성물에 관한 것으로, 3차원으로 배양된 오가노이드의 감소된 줄기세포능을 유지 및/또는 증진시킬 수 있는바, 세포치료제 또는 재생의학 분야에서 활용될 수 있다.
GSK3(Glycogen Synthase Kinase 3) 억제제, Pan-HDAC(Pan-Histonediacetylase) 억제제, Rock(Rho associated, coiled-coil containing protein kinase) 억제제, TGF-β(Transforming growth factor- beta) 억제제 및 MAPK 인산화 억제제를 포함하는 배지용 조성물로서, 상기 조성물은 3차원 장 오가노이드의 2차원 배양을 위해 사용되며, 배양된 장 오가노이드는 Lgr5 발현 수준이 증가되는 것인, 조성물.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.