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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0137438 (2021-10-15) | |
공개번호 | 10-2021-0128970 (2021-10-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210137438 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-10-15) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 원자층 증착법(Atomic layer deposition; 이하, ALD)을 이용한 임플란트의 표면처리 방법 및 상기 방법에 의해 표면 처리된 임플란트에 관한 것이다.
하기의 단계를 포함하는 조골세포의 부착능이 증가한 임플란트 표면처리 방법:임플란트의 표면에 원자층 증착법(Atomic layer deposition; 이하, ALD)으로 지르코니아를 증착하는 증착 단계; 및지르코니아가 증착된 임플란트를 열처리하여 상기 지르코니아가 큐빅 상의 결정 구조를 갖도록 하는 열처리 단계.
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